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								      卷盤配置裝置具備：機(jī)械手；卷盤保持架，其能夠收容多個(gè)部件卷盤，該多個(gè)部件卷盤分別具有向沿載帶的寬度方向排列的多個(gè)饋送器供給的多個(gè)載帶；以及控制部，其使機(jī)械手保持部件卷盤，使機(jī)械手將所保持的部件卷盤配置于卷盤保持架的第一位置。控制部使機(jī)械手將...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種用于保護(hù)低壓電路的保護(hù)開關(guān)設(shè)備（SG），具有：?殼體（GEH），具有至少一個(gè)電網(wǎng)側(cè)接頭和至少一個(gè)負(fù)載側(cè)接頭，?機(jī)械分離觸點(diǎn)單元（MK），其與電子中斷單元（EU）串聯(lián)連接，其中串聯(lián)電路一方面與至少一個(gè)電網(wǎng)側(cè)接頭連接，另一方面與至...
								
            
							
            
							
						
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								      本公開提出一種信息處理設(shè)備(100)，為了引誘并監(jiān)測(cè)從與網(wǎng)絡(luò)連接的信息處理系統(tǒng)展開的網(wǎng)絡(luò)攻擊，其與核心系統(tǒng)(101)可通信地連接，并控制具有特定功能的嵌入式設(shè)備，其中，核心系統(tǒng)(101)與網(wǎng)絡(luò)可通信地連接，信息處理設(shè)備(100)具有：正常端...
								
            
							
            
							
						
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								      公開了一種顏色變化傳感器組件，其在激活后根據(jù)溫度或時(shí)間改變顏色。傳感器組件包括基于氣體濃度改變顏色的指示器。該組件包括多孔材料，該多孔材料包含濃度高于大氣中發(fā)現(xiàn)的氣體濃度的氣體，并且該組件被配置成控制氣體例如二氧化碳擴(kuò)散到顏色變化指示器中。...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種用于培養(yǎng)組織切片(4)的裝置，所述裝置具有：具有環(huán)繞的輪廓的框架(3)以及由環(huán)繞的輪廓形成的在中部的自由空間，其中，框架(3)包括兩個(gè)框架?構(gòu)件(1、2)，它們分別具有環(huán)繞的構(gòu)件?輪廓(100、110、200、210)以及由環(huán)...
								
            
							
            
							
						
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								      一種用于通過(guò)鍍膜源材料的近空間升華(CSS)來(lái)將膜層(可選地多層膜層)連續(xù)沉積至基底上的裝置，所述裝置包括用于將所述膜層沉積至所述基底上的CSS源，以及用于將膜層源材料進(jìn)料至所述CSS源的進(jìn)料系統(tǒng)，其中所述進(jìn)料系統(tǒng)包括布置為在所述膜層沉積期...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種用于處理用于電解器(2)的水的處理裝置(1)，包括：用于提供前水(4)的前水供給器(3)；蒸汽壓縮蒸餾器(5)、尤其是機(jī)械蒸汽壓縮蒸餾器(5)，用于對(duì)所提供的前水(4)進(jìn)行預(yù)凈化，其中，蒸汽壓縮蒸餾器(5)被配置為從所提供的前...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種用于涂漆機(jī)動(dòng)車(100)或機(jī)動(dòng)車部件(102)的方法，該方法包括以下步驟：?將附著促進(jìn)層(62)涂覆到待涂漆的構(gòu)件(52)上，?通過(guò)陰極浸漬涂漆(18)將打底部(64)涂覆到附著促進(jìn)層(62)上，?干燥打底部(64)，?將基礎(chǔ)...
								
            
							
            
							
						
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								      各系統(tǒng)和各方法可用于治療軟組織。該系統(tǒng)可包括激光器，該激光器被配置為發(fā)射脈沖激光能量，該脈沖激光能量可被調(diào)制以在軟組織的切割、切開或切除期間最大化消融效率，同時(shí)優(yōu)化止血并減少繼發(fā)性不良反應(yīng)，諸如組織炭化和瘢痕形成。根據(jù)某些方面，凝固激光模式...
								
            
							
            
							
						
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								      本申請(qǐng)公開了一種顯示面板及顯示裝置，涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域。該顯示面板包括襯底基板，多個(gè)像素單元，彩色濾光層，第一調(diào)光層，第二調(diào)光層以及第三調(diào)光層。彩色濾光層包括黑矩陣以及和多個(gè)像素單元對(duì)應(yīng)的色阻塊。像素單元發(fā)出的光線從色阻塊向第一調(diào)光層出射時(shí)，...
								
            
							
            
							
						
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								      提供一種顯示面板。顯示面板包括交替布置的多個(gè)第一區(qū)域和多個(gè)第二區(qū)域；位于多個(gè)第二區(qū)域的多個(gè)像素驅(qū)動(dòng)電路；多個(gè)第一信號(hào)線；以及多個(gè)第二信號(hào)線。多個(gè)第一區(qū)域中的各個(gè)第一區(qū)域包括一個(gè)或多個(gè)導(dǎo)線。一個(gè)或多個(gè)導(dǎo)線存在于相應(yīng)第一區(qū)域，而不存在于多個(gè)第二...
								
            
							
            
							
						
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								      碳化硅晶體管可以形成有溝道，所述溝道包括位于n摻雜源極區(qū)域和漏極區(qū)域之間的p摻雜區(qū)域。可以在柵極氧化物正下方的溝道的頂部處形成反摻雜區(qū)域。替代使用用于p摻雜區(qū)域的常規(guī)摻雜水平，摻雜濃度可以增加至大于約1e18cm3。晶...
								
            
							
            
							
						
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								      提供了供第一裝置執(zhí)行無(wú)線通信的方法和支持所述方法的裝置。所述方法可以包括以下步驟：獲取與多個(gè)資源池相關(guān)的信息；對(duì)與多個(gè)資源池當(dāng)中的至少一個(gè)資源池相關(guān)的波束失敗進(jìn)行檢測(cè)；在多個(gè)資源池當(dāng)中選擇第一資源池；以及在第一資源池上生成許可。例如，第一資...
								
            
							
            
							
						
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								      提供了一種用于關(guān)閉標(biāo)識(shí)的開放式無(wú)線電接入網(wǎng)絡(luò)(O?RAN)云(O?Cloud)節(jié)點(diǎn)的方法、系統(tǒng)和設(shè)備。該方法可以包括：由聯(lián)合O?Cloud編排和管理(FOCOM)，接收來(lái)自rApp的用以關(guān)閉標(biāo)識(shí)的O?Cloud節(jié)點(diǎn)的推薦；由FOCOM向網(wǎng)絡(luò)...
								
            
							
            
							
						
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								      本公開提供一種投影儀的對(duì)焦方法及投影儀，屬于投影儀技術(shù)領(lǐng)域，其可解決現(xiàn)有的投影畫面邊緣區(qū)域由于距離投影畫面的中心較遠(yuǎn)而失焦，進(jìn)而引起投影畫面模糊不清的問(wèn)題。本公開提供的投影儀的對(duì)焦方法包括：根據(jù)光學(xué)鏡頭與成像平面之間的相對(duì)位置參數(shù)，獲取多組...
								
            
							
            
							
						
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								      本公開提供了一種移相器、天線及通信設(shè)備，包括：第一基板；可調(diào)電抗結(jié)構(gòu)，位于第一基板的一側(cè)；可調(diào)電抗結(jié)構(gòu)包括：位于第一基板一側(cè)的第一接地層，位于第一接地層背離第一基板一側(cè)的可調(diào)電介質(zhì)層，以及位于可調(diào)電介質(zhì)層背離第一基板一側(cè)的負(fù)載線層；第二基板...
								
            
							
            
							
						
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								      提供防止蝕刻時(shí)的氧化硅膜部分的形狀的劣化、相對(duì)于氧化硅膜以高的選擇比對(duì)氮化硅膜高精度地進(jìn)行蝕刻的方法。干式蝕刻方法在對(duì)處理室內(nèi)供給處理用的氣體且不使用等離子的狀態(tài)下對(duì)預(yù)先形成于配置于處理室內(nèi)的晶片上的、氮化硅膜被氧化硅膜上下夾著而層疊的膜層...
								
            
							
            
							
						
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								      一種用于將來(lái)自單個(gè)射頻(RF)功率產(chǎn)生器的RF功率空間地切換到耦合到相關(guān)聯(lián)的RF電極的兩個(gè)或多個(gè)阻抗匹配網(wǎng)絡(luò)中的選定一者以在等離子體腔室中形成等離子體的方法及設(shè)備。全RF功率可在微秒內(nèi)切換到兩個(gè)或多個(gè)阻抗匹配網(wǎng)絡(luò)中的選定一者。所述兩個(gè)或多個(gè)...
								
            
							
            
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種可視化生成系統(tǒng)，所述可視化生成系統(tǒng)包含：存儲(chǔ)器，所述存儲(chǔ)器被配置成存儲(chǔ)由車輛的至少第一傳感器捕獲的數(shù)據(jù)，以及處理器，所述處理器被配置成：接收用于生成所述車輛的操作的可視化的請(qǐng)求；確定生成所述可視化所需的多個(gè)工作節(jié)點(diǎn)；配備所述多...
								
            
							
            
							
						
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								      提供一種陣列基板、顯示面板以及顯示裝置，陣列基板包括襯底基板、多條數(shù)據(jù)線、多個(gè)薄膜晶體管、公共電極、多個(gè)像素電極以及絕緣層，多條數(shù)據(jù)線在襯底基板上的正投影完全落入公共電極在襯底基板上的正投影內(nèi)；公共電極包括多個(gè)開口部，多個(gè)開口部與多個(gè)薄膜晶...
								
            
							
            
							
						
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