昆山國力電子有限公司林家偉獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉昆山國力電子有限公司申請的專利一種微波諧振腔場均勻性的測量方法及測量裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119779128B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202411964833.X，技術領域涉及：G01B7/00；該發明授權一種微波諧振腔場均勻性的測量方法及測量裝置是由林家偉;王少哲;劉駿嵩;張春潮;張金貴;李永明;高斌設計研發完成，并于2024-12-30向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種微波諧振腔場均勻性的測量方法及測量裝置在說明書摘要公布了：本發明公開了一種微波諧振腔場均勻性的測量方法及測量裝置，根據非諧振微擾理論，微擾前和微擾后，空間中相應位置處的電磁場會發生改變，這種改變會反應到電磁場的反射系數S11，而S11又是一個能夠通過矢量網絡分析儀探測到的量。因此，我們可以通過使用矢量網絡分析儀測量微擾前后電磁場的S11值，來判斷電磁場變化了多少，進而得出ΔS11值，根據ΔS11的一致性來判斷待測器件的加工精度。
本發明授權一種微波諧振腔場均勻性的測量方法及測量裝置在權利要求書中公布了：1.一種微波諧振腔場均勻性的測量方法，其特征在于，包括以下步驟： 步驟1、根據待測諧振腔大小選擇合適的微擾體，待測諧振腔由多個束流通道組成，且所述束流通道由鼻錐孔、鼻錐間隙和漂移管構成； 步驟2、啟動矢量網絡分析儀并進行微波校準，矢量網絡分析儀通過測試連接線與探針相連接，并將探針通過探針工裝放置于待測諧振腔的鼻錐孔內； 步驟3、通過矢量網絡分析儀讀取在未放入微擾體時待測諧振腔的工作頻率下的微擾前的反射系數； 步驟4、將微擾體及微擾體工裝放入待測諧振腔的鼻錐間隙內，通過矢量網絡分析儀讀取放入微擾體時待測諧振腔的工作頻率下的微擾后的反射系數； 步驟5、微擾前和微擾后，空間中相應位置處的電磁場會發生改變，這種改變會反應到電磁場的反射系數值； 通過對比步驟3中微擾前的反射系數和步驟4中微擾后的反射系數得到微擾前后電磁場反射系數的差值Δ，來判斷電磁場的變化； 步驟6、當多個Δ的一致性均大于95%時，判定待測諧振腔加工符合要求；當其中一個Δ的一致性小于95%時，判定待測諧振腔加工不符合要求。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人昆山國力電子有限公司，其通訊地址為：215300 江蘇省蘇州市昆山開發區西湖路28號6號房；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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