同濟大學張弛獲國家專利權
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龍圖騰網(wǎng)獲悉同濟大學申請的專利一種亞甲基二硼酸二階非線性光學晶體材料在非線性光學領域中的應用獲國家發(fā)明授權專利權,本發(fā)明授權專利權由國家知識產(chǎn)權局授予,授權公告號為:CN119753846B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權局官網(wǎng)在2025-09-26發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉:該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為:202411989311.5,技術領域涉及:C30B29/54;該發(fā)明授權一種亞甲基二硼酸二階非線性光學晶體材料在非線性光學領域中的應用是由張弛;余炳;吳超設計研發(fā)完成,并于2024-12-31向國家知識產(chǎn)權局提交的專利申請。
本一種亞甲基二硼酸二階非線性光學晶體材料在非線性光學領域中的應用在說明書摘要公布了:本發(fā)明涉及一種亞甲基二硼酸二階非線性光學晶體材料在非線性光學領域中的應用,該晶體材料的化學式為CH6B2O4,分子量為103.68,屬于四方晶系,其空間群為I41md,晶胞參數(shù)為α=β=γ=90°,Z=4,晶胞體積為本發(fā)明的亞甲基二硼酸晶體材料具有優(yōu)良的光學性能,在1064nm激光輻照下,粉末倍頻強度約為磷酸二氫鉀晶體的0.3倍,且能夠實現(xiàn)相位匹配。此外,該二階非線性光學材料的單晶制備方法簡便,其紫外吸收截止邊小于190nm,這些優(yōu)點使其在激光頻率轉換、光信息處理、全息儲存和光通訊等領域具有重要的應用潛力。
本發(fā)明授權一種亞甲基二硼酸二階非線性光學晶體材料在非線性光學領域中的應用在權利要求書中公布了:1.一種亞甲基二硼酸二階非線性光學晶體材料在非線性光學領域中的應用,其特征在于,該晶體材料的化學式為CH6B2O4,分子量為103.68,屬于四方晶系,其空間群為I41 md,晶胞參數(shù)為a=b=10.79~10.97?,c=4.09~4.28?,α=β=γ=90°,Z=4,晶胞體積為V=484.8~501.2?3。
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