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龍圖騰網獲悉中銅華中銅業有限公司申請的專利一種磁控濺射鍍膜用超低氧含量純銅厚板及其制備方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120485565B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510972234.0，技術領域涉及：C22C1/02；該發明授權一種磁控濺射鍍膜用超低氧含量純銅厚板及其制備方法是由臧經梅;陳忠平;曾麗卿;張武;魯浩;惠榮瑞;楊占雄;蔣強;冉競優;潘菲;武俊設計研發完成，并于2025-07-15向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種磁控濺射鍍膜用超低氧含量純銅厚板及其制備方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種磁控濺射鍍膜用超低氧含量純銅厚板及其制備方法，按重量百分比計，磁控濺射鍍膜用超低氧含量純銅厚板Cu含量≥99.997%，O含量為1~3ppm，Fe含量≤5ppm，P含量≤5ppm，余量為不可避免的雜質元素；制備時，首先對純銅厚板進行烘烤，再送入熔煉爐中熔煉，通過以氧抑氫和氧化的方式將銅液中雜質元素和氫氣去除，再采用木炭覆蓋和底吹一氧化碳除氧，然后進行保溫爐精煉和垂直全連鑄鑄造，最后在熱軋機上進行12道次軋制即得；本發明通過精確控制加熱溫度、保溫時間、軋制道次和變形量，確保了最終產品的晶粒尺寸大小、均勻和表面質量，減少了內部缺陷，制備的純銅厚板具有極高的銅含量和極低的氧含量，為行業的發展提供了重要的材料支持。

本發明授權一種磁控濺射鍍膜用超低氧含量純銅厚板及其制備方法在權利要求書中公布了：1.一種磁控濺射鍍膜用超低氧含量純銅厚板的制備方法，其特征在于，包括以下步驟： 步驟S1：將銅含量≥99.9935%的高純陰極銅板進行烘烤；所述烘烤溫度為400~450℃，烘烤時間為100~150s； 步驟S2：將烘烤后高純陰極銅板加入到熔煉爐中進行熔煉，熔煉過程底吹增氧，增氧后的氧含量控制在400~600ppm；通過以氧抑氫和氧化方式將銅液中雜質元素和氫氣去除，得到第一次中間熔體； 步驟S3：將第一次中間熔體進行木炭覆蓋，并底吹一氧化碳同時除氧，控制氧含量在10~20ppm，然后依次加入CuP和CuMg中間合金，通過氧化反應，進一步去除氧，將氧含量控制在1~3ppm，得到第二次中間熔體； 步驟S4：將第二次中間熔體在密封環境下轉爐到保溫爐，然后通過保溫爐通氣磚底吹氬氣進一步精煉，得到合格銅熔體；所述保溫爐溫度為1150~1180℃，氬氣露點值為-70℃~-74℃； 步驟S5：將合格銅熔體通過澆注管進行垂直全連鑄鑄造，并控制二冷區的冷卻水量為720-780Lmin，得到銅鑄錠； 步驟S6：將銅鑄錠在步進式加熱爐中加熱和保溫，所述步進爐的加熱溫度為750~800℃，保溫時間為5~6h；然后在熱軋機上進行12道次軋制，接著進行脫脂、清洗和烘干，得到超低氧含量純銅厚板成品；所述12道次軋制為在熱軋機上熱軋11道次并立即水冷后進行1道次冷軋，11道次熱軋工藝的厚度加工率為9%→12.00%→15%→17%→20%→20%→24%→22%→21%→19%→10.00%；第12道次的道次厚度變形量為6~8%，水冷后板材溫度≤50℃。

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