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龍圖騰網(wǎng)獲悉北京航空航天大學(xué);杭州市北京航空航天大學(xué)國(guó)際創(chuàng)新研究院(北京航空航天大學(xué)國(guó)際創(chuàng)新學(xué)院)申請(qǐng)的專利大幅面微肋條膜的半液化輥壓裝置及其制備方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN120552354B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202511056308.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：B29C59/04；該發(fā)明授權(quán)大幅面微肋條膜的半液化輥壓裝置及其制備方法是由潘翀;喬帥;王將升;鄭欽敏;范德威;胡云炳;賀曦設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2025-07-30向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本大幅面微肋條膜的半液化輥壓裝置及其制備方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供了一種大幅面微肋條膜的半液化輥壓裝置及其制備方法，包括依次設(shè)置的出料加熱模塊、輥壓冷卻模塊和剝離收料模塊，出料加熱模塊對(duì)底膜支撐下的基膜進(jìn)行半液化加熱、輥壓冷卻模塊對(duì)基膜進(jìn)行輥壓并快速冷卻定型，并通過剝離收料模塊對(duì)基膜和底膜進(jìn)行剝離，從而實(shí)現(xiàn)微肋膜的精確成型，解決了現(xiàn)有技術(shù)中的成型精度、成型面積、生產(chǎn)效率和成本控制等方面的難題，為微肋膜的工業(yè)化生產(chǎn)提供了新的技術(shù)路徑。

本發(fā)明授權(quán)大幅面微肋條膜的半液化輥壓裝置及其制備方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種大幅面微肋條膜的半液化輥壓裝置，用于制備基膜，其特征在于，包括依次設(shè)置的出料加熱模塊、輥壓冷卻模塊和剝離收料模塊； 所述出料加熱模塊包括依次設(shè)置的基膜出料輥、第一基膜彎輥，以及對(duì)應(yīng)且依次設(shè)置的底膜出料輥、第一底膜彎輥，以及混合輥、橡膠壓輥、加熱輥和加熱罩，所述混合輥設(shè)置于所述第一基膜彎輥和所述第一底膜彎輥的右上方，所述混合輥設(shè)置于所述橡膠壓輥的下方，所述橡膠壓輥與所述加熱輥貼合，所述加熱罩部分包覆所述加熱輥的表面，所述基膜從所述基膜出料輥輸入，所述底膜出料輥用于輸入底膜，所述基膜和所述底膜通過所述混合輥貼合，使所述基膜貼合于所述混合輥，所述底膜貼合于所述基膜，所述橡膠壓輥使所述底膜貼合于所述加熱輥，所述基膜貼合于所述底膜，所述加熱輥和所述加熱罩對(duì)所述基膜的上下表面同時(shí)加熱，使所述基膜呈半液化狀態(tài)； 所述輥壓冷卻模塊包括依次設(shè)置的版壓輥、版輥、第一冷卻輥、第二冷卻輥和過渡輥，所述過渡輥設(shè)置于所述第二冷卻輥的下方，所述版輥表面具有微結(jié)構(gòu)，所述版輥與所述版壓輥貼合，所述版輥壓印呈半液化的所述基膜使所述基膜表面具有所述微結(jié)構(gòu)，所述第一冷卻輥和所述第二冷卻輥貼近設(shè)置并先后對(duì)所述基膜的上下面表面進(jìn)行冷卻； 所述剝離收料模塊包括依次設(shè)置的基膜剝離輥、基膜收料輥，以及對(duì)應(yīng)依次設(shè)置的底膜剝離輥、底膜收料輥，所述基膜剝離輥和所述底膜剝離輥貼合且反向同速度旋轉(zhuǎn)，所述基膜收料輥回收所述基膜，所述底膜收料輥回收所述底膜， 所述微結(jié)構(gòu)包括若干平行設(shè)置的微肋條，所述微肋條高30μm，所述版壓輥與所述加熱罩底部的最短縱向距離為30mm，所述第一冷卻輥與所述第二冷卻輥貼近處的水平距離為30mm，并且所述過渡輥與所述第二冷卻輥的最短距離為30mm， 所述半液化輥壓裝置還包括自適應(yīng)調(diào)節(jié)系統(tǒng)，所述第一基膜彎輥設(shè)置于所述自適應(yīng)調(diào)節(jié)系統(tǒng)，所述第一基膜彎輥為弧線路徑放樣幾何體，沿著所述第一基膜彎輥的放樣方向均勻設(shè)置5個(gè)張力傳感器，用于測(cè)量所述基膜的張力，所述自適應(yīng)調(diào)節(jié)系統(tǒng)根據(jù)所述張力傳感器的測(cè)量結(jié)果對(duì)所述第一基膜彎輥的傾斜角度進(jìn)行自適應(yīng)調(diào)整， 所述剝離收料模塊還包括第二基膜彎輥和第二底膜彎輥，所述第二基膜彎輥設(shè)置于所述基膜剝離輥和所述基膜收料輥之間，所述第二底膜彎輥設(shè)置于所述底膜剝離輥和所述底膜收料輥之間，所述第一底膜彎輥、所述第二基膜彎輥和所述第二底膜彎輥均設(shè)置于所述自適應(yīng)調(diào)節(jié)系統(tǒng)，且分別均布5個(gè)所述張力傳感器，所述自適應(yīng)調(diào)節(jié)系統(tǒng)根據(jù)所述張力傳感器的測(cè)量結(jié)果對(duì)所述第一底膜彎輥、所述第二基膜彎輥和所述第二底膜彎輥的傾斜角度分別進(jìn)行調(diào)整。

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