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龍圖騰網(wǎng)獲悉江西恒捷智能裝備有限公司申請的專利基于真空吸附陣列的鈑金超薄件點(diǎn)焊無損傷定位平臺獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN120551696B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202511071912.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：B23K37/04；該發(fā)明授權(quán)基于真空吸附陣列的鈑金超薄件點(diǎn)焊無損傷定位平臺是由付恒;鄧楊華;鄧勇城;何超設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2025-08-01向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本基于真空吸附陣列的鈑金超薄件點(diǎn)焊無損傷定位平臺在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及真空吸附定位平臺技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種基于真空吸附陣列的鈑金超薄件點(diǎn)焊無損傷定位平臺，包括底座，所述底座的頂部安裝有左右分布的真空吸板一和真空吸板二，所述真空吸板一和真空吸板二上均安裝有滾動支撐單元和定位單元。本發(fā)明在對鈑金件進(jìn)行定位時(shí)，上下活動組件和限位組件對活動塞進(jìn)行頂持限位，使?jié)L珠突出到真空吸板一和真空吸板二的外部，使?jié)L珠能夠?qū)⑩k金件與真空吸板一或真空吸板二的頂部分隔開，避免鈑金件在移動定位的過程中與真空吸板一或真空吸板二的頂部發(fā)生摩擦受損，而在吸附鈑金件時(shí)，又能夠使鈑金件落到真空吸板一或真空吸板二上，避免影響對鈑金件的吸附。

本發(fā)明授權(quán)基于真空吸附陣列的鈑金超薄件點(diǎn)焊無損傷定位平臺在權(quán)利要求書中公布了：1.一種基于真空吸附陣列的鈑金超薄件點(diǎn)焊無損傷定位平臺，包括底座（1），其特征在于：所述底座（1）的頂部安裝有左右分布的真空吸板一（2）和真空吸板二（3），所述真空吸板一（2）和真空吸板二（3）上均安裝有滾動支撐單元（4）和定位單元（5）； 所述真空吸板一（2）的頂部開設(shè)有均呈矩陣排布的若干吸附孔（21）和活動槽（22），所述吸附孔（21）和活動槽（22）相間分布，所述真空吸板一（2）和真空吸板二（3）的結(jié)構(gòu)相同； 所述滾動支撐單元（4）包括上下滑動安裝在活動槽（22）內(nèi)部的活動塞（41），所述活動塞（41）的頂部轉(zhuǎn)動安裝有滾珠（42），所述活動槽（22）的內(nèi)環(huán)壁上安裝有與活動塞（41）一一對應(yīng)且用于帶動活動塞（41）上下活動的上下活動組件（43），所述活動塞（41）上安裝有限制其上下活動的限位組件（44），所述真空吸板一（2）的內(nèi)腔中安裝有用于對吸附孔（21）底部實(shí)施封堵的封堵組件（45）； 真空吸附時(shí)，通過負(fù)壓帶動限位組件（44）解除對活動塞（41）的限制，活動塞（41）在負(fù)壓吸引下向下移動，將滾珠（42）下降到真空吸板一（2）頂部以下，使鈑金件貼合在真空吸板一（2）的頂部，活動塞（41）下降時(shí)帶動封堵組件（45）解除對吸附孔（21）底部的封堵，使吸附孔（21）吸附住鈑金件。

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