季華實驗室戴深宇獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉季華實驗室申請的專利貝塞爾光束可調聚焦位置方法及其裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120577939B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202511081331.7，技術領域涉及：G02B7/28；該發明授權貝塞爾光束可調聚焦位置方法及其裝置是由戴深宇;鐘志成;鄭昕;董雷崗;曹艷波設計研發完成，并于2025-08-04向國家知識產權局提交的專利申請。
本貝塞爾光束可調聚焦位置方法及其裝置在說明書摘要公布了：本發明公開了一種貝塞爾光束可調聚焦位置方法及其裝置，涉及光學技術領域，貝塞爾光束可調聚焦位置方法包括：獲取所述振幅濾波片上調節圓環的半徑；獲取所述聚焦透鏡的焦距；獲取所述第一衍射光學元件和所述第二衍射光學元件的角度差；根據所述角度差調整所述光學系統的離焦值；本發明的技術方案通過采用僅對第一衍射光學元件和第二衍射光學元件調節，實現了光學系統對貝塞爾光束聚焦位置的快速、高精度、連續動態調節。且調節過程不改變貝塞爾光束的焦深，因此不會影響調節前后光束的縱向相對空間分布。
本發明授權貝塞爾光束可調聚焦位置方法及其裝置在權利要求書中公布了：1.一種貝塞爾光束可調聚焦位置方法，其特征在于，所述貝塞爾光束可調聚焦位置方法應用于光學系統，所述光學系統包括沿光軸方向依次設置的振幅濾波片、光柵及聚焦透鏡，所述光柵包括相對設置的第一衍射光學元件和第二衍射光學元件，所述貝塞爾光束可調聚焦位置方法包括： 獲取所述振幅濾波片上調節圓環的半徑； 獲取所述聚焦透鏡的焦距； 獲取所述第一衍射光學元件和所述第二衍射光學元件的角度差； 根據所述角度差調整所述光學系統的離焦值； 所述角度差、所述焦距、所述圓環半徑以及所述離焦值滿足以下關系： ； 其中，Δf為所述離焦值，f為所述焦距，θ為所述角度差，λ為進入所述光學系統中的激光的波長，D為所述圓環半徑，K為常數系數。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人季華實驗室，其通訊地址為：528200 廣東省佛山市南海區桂城街道環島南路28號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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