艾科系統(tǒng)公司馬修·埃里克·科瓦契奇獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉艾科系統(tǒng)公司申請的專利用于流量限制器的密封件獲國家發(fā)明授權專利權,本發(fā)明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114556536B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-23發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉:該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為:202080057738.5,技術領域涉及:H01L21/67;該發(fā)明授權用于流量限制器的密封件是由馬修·埃里克·科瓦契奇;扎卡賴亞·伊齊基爾·麥金太爾;肖恩·約瑟夫·彭利;克里斯托弗·布賴恩特·戴維斯設計研發(fā)完成,并于2020-08-05向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于流量限制器的密封件在說明書摘要公布了:用于控制氣流的裝置是輸送用于半導體制造的工藝氣體的重要部件。這些用于控制氣流的裝置經常依賴于有效密封的流量限制器,這可以消除流量限制器周圍的工藝氣體泄漏。在一個實施例中,公開了一種用于流量限制器的密封件,該密封件包括收縮配合到流量限制器的密封部分上的塑料圓柱體。在另一個實施例中,公開了一種用于流量限制器的密封件,該密封件具有帶流量孔的第一密封環(huán)、安裝在流量孔中的流量限制器。
本發(fā)明授權用于流量限制器的密封件在權利要求書中公布了:1.一種閥組件,包括: 包括有通道的閥; 流量限制器,該流量限制器包括: 第一端; 第二端; 從所述第一端延伸至所述第二端的縱向軸線; 密封部分,其沿所述縱向軸線位于所述第一端與所述第二端之間;以及 密封件,其與所述流量限制器的密封部分和所述閥的通道接觸; 其中,工藝氣體通過所述流量限制器從所述第一端流到所述第二端,所述密封件防止所述工藝氣體在所述流量限制器周圍流動;所述流量限制器與所述通道的壁間隔開。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人艾科系統(tǒng)公司,其通訊地址為:美國得克薩斯州78728奧斯汀市帕克路200C號600室;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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