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龍圖騰網(wǎng)獲悉東芝三菱電機(jī)產(chǎn)業(yè)系統(tǒng)株式會(huì)社申請(qǐng)的專利活性氣體生成裝置獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN114916255B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-23發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202080088706.1，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H05H1/24；該發(fā)明授權(quán)活性氣體生成裝置是由渡邊謙資;有田廉設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-12-07向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本活性氣體生成裝置在說(shuō)明書摘要公布了：本發(fā)明的目的在于提供一種噴吹不含雜質(zhì)的高品質(zhì)的活性氣體的構(gòu)造的活性氣體生成裝置。本發(fā)明的活性氣體生成裝置100具備：基座凸緣4，具有中央底面區(qū)域48和周邊突出部46；冷卻板9，設(shè)置在基座凸緣4的周邊突出部46上；絕緣板7，設(shè)置在冷卻板9與高電壓施加電極部1之間；以及電極按壓部件8，以從下方支承高電壓施加電極部1的方式設(shè)置在冷卻板9的下表面上。并且，通過(guò)冷卻板9、電極按壓部件8以及高電壓施加電極部1，設(shè)置將殼體內(nèi)空間33與放電空間6之間的氣體的流動(dòng)分離的氣體分離構(gòu)造。

本發(fā)明授權(quán)活性氣體生成裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種活性氣體生成裝置，生成使供給至放電空間的原料氣體活化而得到的活性氣體，其特征在于，具備： 第1電極構(gòu)成部；以及 第2電極構(gòu)成部，設(shè)置在上述第1電極構(gòu)成部的下方， 上述第1電極構(gòu)成部具有第1電極用介電膜以及形成在上述第1電極用介電膜的上表面上的第1金屬電極，上述第2電極構(gòu)成部具有第2電極用介電膜以及形成在上述第2電極用介電膜的下表面上的第2金屬電極，上述第1金屬電極被施加交流電壓，上述第2金屬電極被設(shè)定為接地電位，在上述第1以及第2電極用介電膜對(duì)置的電介質(zhì)空間內(nèi)，作為上述放電空間而包含上述第1以及第2金屬電極在俯視時(shí)重復(fù)的區(qū)域， 上述第2電極用介電膜具有用于將上述活性氣體向下方噴出的氣體噴出孔， 上述活性氣體生成裝置還具備基座凸緣，該基座凸緣具有導(dǎo)電性，截面構(gòu)造為凹狀，具有中央底面區(qū)域以及沿著上述中央底面區(qū)域的外周設(shè)置并向高度方向突出的周邊突出部，上述第2電極構(gòu)成部以上述第2金屬電極接觸在上述中央底面區(qū)域上的方式設(shè)置， 上述活性氣體生成裝置還具備： 冷卻板，設(shè)置在上述基座凸緣的上述周邊突出部上，不與上述第1電極構(gòu)成部接觸地位于上述第1電極構(gòu)成部的上方； 絕緣材，設(shè)置在上述冷卻板與上述第1電極構(gòu)成部之間，上表面與上述冷卻板的下表面接觸，且下表面與上述第1金屬電極的上表面接觸； 電極支承部件，以從下方支承上述第1電極構(gòu)成部的方式設(shè)置在上述冷卻板的下表面上；以及 金屬制的殼體，設(shè)置在上述基座凸緣的上述周邊突出部上，具有收容上述冷卻板的殼體內(nèi)空間， 上述基座凸緣具有： 氣體供給口，從外部接受上述原料氣體； 氣體通過(guò)路徑，用于將上述原料氣體向上述放電空間供給； 冷卻介質(zhì)供給口，從外部接受冷卻介質(zhì)； 冷卻介質(zhì)通過(guò)口，用于將上述冷卻介質(zhì)向上述冷卻板供給；以及 基座凸緣用氣體噴出孔，用于將從上述氣體噴出孔噴出的上述活性氣體向下方噴出， 上述基座凸緣被賦予接地電位， 上述冷卻板具有使經(jīng)由上述冷卻介質(zhì)通過(guò)口供給的上述冷卻介質(zhì)在內(nèi)部流通的冷卻介質(zhì)路徑， 通過(guò)上述冷卻板、上述電極支承部件以及上述第1電極構(gòu)成部，設(shè)置將上述殼體內(nèi)空間與上述放電空間之間的氣體的流動(dòng)分離的氣體分離構(gòu)造。

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