武漢華星光電技術有限公司羅成志獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉武漢華星光電技術有限公司申請的專利陣列基板及其制備方法、顯示面板獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114864605B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-23發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202210547754.3,技術領域涉及:H10D86/40;該發明授權陣列基板及其制備方法、顯示面板是由羅成志設計研發完成,并于2022-05-18向國家知識產權局提交的專利申請。
本陣列基板及其制備方法、顯示面板在說明書摘要公布了:本申請實施例提供一種陣列基板及其制備方法、顯示面板,所述陣列基板包括依次層疊設置的襯底基板、第一緩沖層、第一濾光層、第二緩沖層、有源層、柵極絕緣層、柵極、層間絕緣層、第二濾光層、源漏電極以及平坦層。通過將所述第一濾光層與所述第二濾光層集成至所述陣列基板,外界的光能夠射入所述陣列基板,首先通過所述第一濾光層將光反射至所述第二濾光層,然后通過所述第二濾光層將光反射至所述有源層,所述有源層能夠充當感光單元,以滿足對外界光中紫外線強度進行檢測的需求。通過直接將紫外檢測結構制備在陣列基板上,解決了目前紫外光探測需要附帶濾光片才能使用的問題,制備工藝上更為簡單,節約了生產成本。
本發明授權陣列基板及其制備方法、顯示面板在權利要求書中公布了:1.一種陣列基板,其特征在于,包括: 襯底基板; 第一緩沖層,設置于所述襯底基板的一側,具有一凹槽; 第一濾光層,設置于所述第一緩沖層遠離所述襯底基板的一側,且覆蓋所述凹槽,所述第一濾光層包括至少一第一金屬層與至少一第一金屬氧化層,所述第一金屬層靠近所述第一緩沖層設置; 有源層,設置于所述第一濾光層的遠離所述第一緩沖層的一側,且對應所述第一濾光層設置;以及 第二濾光層,設置在所述有源層的遠離所述第一濾光層的一側,且對應所述有源層設置,所述第二濾光層包括至少一第二金屬層與至少一第二金屬氧化層,所述第二金屬氧化層靠近所述有源層設置; 其中,所述有源層在所述襯底基板上的正投影位于所述第一濾光層在所述襯底基板上的正投影內,所述第一金屬層與所述第二金屬層的材料包括鈦,所述第一金屬氧化層與所述第二金屬氧化層的材料包括氧化鈦。
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