西安工業大學張進獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉西安工業大學申請的專利一種磁透鏡約束聚焦反應離子束源獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119275077B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-23發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202411382201.2，技術領域涉及：H01J37/141；該發明授權一種磁透鏡約束聚焦反應離子束源是由張進;吳嘉俊;劉衛國;惠迎雪;秦文罡;梁海鋒;栗旭陽;蔡長龍設計研發完成，并于2024-09-30向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種磁透鏡約束聚焦反應離子束源在說明書摘要公布了：本發明屬于等離子體技術領域，具體涉及一種磁透鏡約束聚焦反應離子束源.本發明能獲得離子能量呈正太分布的聚焦離子束，并引入反應氣體，實現光學元件表面損傷層的快速去除。本發明采用的技術方案包括陽極，設置于陽極上方的外陰極和設置于離子源中間的中心陰極，所述的陽極、外陰極和中心陰極為異形圓環，外陰極和中心陰極之間設置有離子束引出間隙，陽極和外陰極、中心陰極之間設置有電離區，陽極外側設置有電離磁線圈，中心陰極下方設置有工作氣體導入裝置，中心陰極上方設置有磁透鏡中心磁極，所述磁透鏡中心磁極中間設置有反應氣體導出孔，反應氣體由導氣管經中心陰極導入磁透鏡中心磁極，磁透鏡中心磁極外周設置有磁透鏡線圈，磁透鏡線圈上方設置有磁透鏡外磁極。
本發明授權一種磁透鏡約束聚焦反應離子束源在權利要求書中公布了：1.一種磁透鏡約束聚焦反應離子束源，包括設置于底板上的筒狀外殼、筒狀外殼內設置有陽極（1）、外陰極（2）和中心陰極（3），筒狀外殼內的底板中心設置有工作氣體導入裝置（8），中心陰極（3）設置于工作氣體導入裝置（8）上，外陰極（2）的向下傾斜的內環與中心陰極（3）向上傾斜的內環相對設置之間的間隙為離子束引出間隙；其特征在于：所述的陽極（1）和外陰極（2）、中心陰極（3）之間設置有電離區，筒狀外殼的內側壁上設置有電離磁線圈（7），中心陰極（3）上方設置有磁透鏡中心磁極（4），所述的磁透鏡中心磁極（4）中間設置有反應氣體導出孔，反應氣體由導氣管（9）經中心陰極（3）導入磁透鏡中心磁極（4），再由磁透鏡中心磁極（4）中設置的導出孔導出，外陰極（2）的上部從下到上依次設置有磁透鏡線圈（6）和磁透鏡外磁極（5）。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人西安工業大學，其通訊地址為：710032 陜西省西安市未央區學府中路2號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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