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龍圖騰網獲悉合肥中聚和成光電材料股份有限公司申請的專利一種ITO-Ag-ITO蝕刻液及其制備方法和應用獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120442254B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-23發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510934486.4，技術領域涉及：C09K13/06；該發明授權一種ITO-Ag-ITO蝕刻液及其制備方法和應用是由趙建國;吳新清;王維康;何燁謙;黃德新;龔升設計研發完成，并于2025-07-08向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種ITO-Ag-ITO蝕刻液及其制備方法和應用在說明書摘要公布了：本發明屬于蝕刻、表面增亮或酸洗組合物技術領域，具體涉及一種ITO?Ag?ITO蝕刻液及其制備方法和應用。包括如下質量百分數的組分：酒石酸15?30%、磺基羧酸8?20%、硫酸氫鹽5?15%、硝酸3?10%、糖醇類化合物2?6%、聚醚胺0.1?5%、緩蝕劑0.01?1%，余量為水。上述各組分之間相互作用，調節蝕刻選擇性，均勻蝕刻，減少Ag膜層部分脫落、黑點、暗點或者短路等不良現象；降低蝕刻液對Al的活性，不會造成Al側蝕；且通過絡合?分散?吸附多重機制，抑制Ag+的還原反應，減少蝕刻后銀顆粒殘留及在Al等區域的析出，大大提升圖案精度，顯著提高了OLED制程中的產品良率。解決了現有技術中ITO與Ag蝕刻差異、銀殘留、銀析出以及金屬Al腐蝕問題。

本發明授權一種ITO-Ag-ITO蝕刻液及其制備方法和應用在權利要求書中公布了：1.一種ITO-Ag-ITO蝕刻液，其特征在于，包括如下質量百分數的組分：酒石酸15-30%、磺基羧酸8-20%、硫酸氫鹽5-15%、硝酸3-10%、糖醇類化合物2-6%、聚醚胺0.1-5%、緩蝕劑0.01-1%，余量為水；所述磺基羧酸由質量比為（3-7）:2的2-磺基乙酸與4,8-二磺基萘-2,6-二羧酸混合而得，或者由質量比為2:1的3-磺基丙酸與磺基鄰苯二甲酸混合而得；所述聚醚胺的分子量為400-1000；所述糖醇類化合物為山梨糖醇、甘露醇、木糖醇、麥芽糖醇、蘇糖醇、赤蘚糖醇、核糖醇、巖藻糖醇、半乳糖醇、阿拉伯糖醇、艾杜糖醇中的任意一種或兩種以上的組合。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人合肥中聚和成光電材料股份有限公司，其通訊地址為：231600 安徽省合肥市肥東縣合肥循環經濟示范園長松路東800米處；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。