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龍圖騰網獲悉中國工程物理研究院激光聚變研究中心申請的專利一種基于光場響應特性的抗反射表面設計方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120430125B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-23發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510935251.7，技術領域涉及：G06F30/23；該發明授權一種基于光場響應特性的抗反射表面設計方法是由李玉海;謝林圯;袁曉東;孫來喜;王方;鄭天然設計研發完成，并于2025-07-08向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種基于光場響應特性的抗反射表面設計方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種基于光場響應特性的抗反射表面設計方法，涉及光學表面處理技術領域，包括：S1、基于波動光學理論建立有限元模型；S2、通過有限元模型構建基于二維空氣與基底材料的工件模型，并且按不同功能和屬性將整個工件模型的幾何區域劃分為多個；S3、對各區域進行非線性網格劃分，并在非線性網格劃分過程中，對光場多次耦合的區域進行局部加密；S4、對工件模型在各個參數化下的微結構開展電磁場模擬實驗，通過分析不同微結構形貌對反射率的影響，篩選出具有相對較低反射率的微結構設計。本發明提供一種基于光場響應特性的抗反射表面設計方法，分析抗反射微結構的抗反射機制，探索微結構相關參數對抗反射性能的影響。

本發明授權一種基于光場響應特性的抗反射表面設計方法在權利要求書中公布了：1.一種基于光場響應特性的抗反射表面設計方法，其特征在于，包括： S1、基于波動光學理論建立有限元模型，所述有限元模型的參數化設計為優化微結構表面的反射率來調整微結構表面形貌； S2、通過有限元模型構建基于二維空氣與基底材料的工件模型，且按不同功能和屬性將整個工件模型的幾何區域劃分為多個部分； S3、對各區域進行非線性網格劃分，并在非線性網格劃分過程中，對光場多次耦合的區域進行局部加密； S4、對工件模型在各個參數化下的微結構開展電磁場模擬實驗，并計算各個微結構在不同入射條件下所對應的反射率，以通過分析不同微結構形貌對反射率的影響，篩選出具有相對較低反射率的微結構設計； 其中，在S3中，所述局部加密集中于空氣與基底材料交界面所在區域，且加密區域與邊緣之間的網格大小差異被設計為采用逐漸過渡的方式，以使網格密度在不同區域之間實現平滑過渡； 其中，在網格劃分過程中，各區域網格的最大單元大小設置為0.01μm，且最大單元增長率被限制為1.05； 各區域網格的最小單元大小為0.001μm； 各區域網格的曲率因子設置為0.2，狹窄區域分辨率設置為1。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人中國工程物理研究院激光聚變研究中心，其通訊地址為：621000 四川省綿陽市科學城綿山路64號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。