日立高科技分析科學有限公司安德烈·佩特斯獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉日立高科技分析科學有限公司申請的專利易于調節的光學發射光譜儀獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114585906B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-19發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080073654.0，技術領域涉及：G01N21/01；該發明授權易于調節的光學發射光譜儀是由安德烈·佩特斯;萊納·西蒙斯設計研發完成，并于2020-11-04向國家知識產權局提交的專利申請。
本易于調節的光學發射光譜儀在說明書摘要公布了：本發明涉及一種易于調節的光學發射光譜儀1，以及一種用于建立和操作這種光譜儀1的方法100，該光譜儀1包括用于從樣品材料建立發光等離子體的等離子體支架2，以及用于測量由等離子體發射的光L的光譜的光學系統3，光譜是樣品材料的特征，其中所述光學系統3包括至少一個光入射孔徑31、用于分離來自所述等離子體A的光L的至少一個衍射光柵32和用于測量所述光L的光譜的一個或多個檢測器33，其中所述等離子體支架2和所述光學系統3分別直接和固定地安裝在彼此直接和固定連接的等離子體支架凸緣2B和光學系統凸緣3B上，并且其中，光學發射光譜儀1還包括分析單元34，所述分析單元34適于分析所測量的光譜，并且考慮到所述光學系統3的熱膨脹，補償可能由從所述等離子體支架2傳遞到所述光學系統3的熱量所引起的光譜相對于檢測器33的漂移。
本發明授權易于調節的光學發射光譜儀在權利要求書中公布了：1.一種光學發射光譜儀1，其特征在于，包括用于從樣品材料建立發光等離子體的等離子體支架2、和用于測量由所述等離子體發射的光L的光譜的光學系統3，所述光L的所述光譜是所述樣品材料的特征，其中所述光學系統3包括至少一個光入射孔徑31、用于將來自所述等離子體的所述光L衍射成光譜的至少一個衍射光柵、以及用于測量所述光L的所述光譜的一個或多個檢測器33，其中所述等離子體支架2和所述光學系統3分別被直接和固定地安裝在彼此被直接和固定連接的等離子體支架凸緣2B和光學系統凸緣3B上，并且其中光學發射光譜儀1還包括分析單元34，所述分析單元34適于分析所測量的光譜，并且考慮到所述光學系統3的熱膨脹，補償由從所述等離子體支架2傳遞到所述光學系統3的熱量所引起的所述光譜相對于所述檢測器33的漂移。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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