買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標用IPTOP,全免費！專利年費監(jiān)控用IP管家,真方便！

龍圖騰網(wǎng)獲悉東京毅力科創(chuàng)株式會社申請的專利基片處理裝置獲國家發(fā)明授權專利權，本發(fā)明授權專利權由國家知識產(chǎn)權局授予，授權公告號為：CN113161255B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權局官網(wǎng)在2025-09-19發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉：該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為：202011576637.7，技術領域涉及：H01L21/67；該發(fā)明授權基片處理裝置是由櫻井宏紀;后藤大輔;中澤貴士;高松祐助;橋本佑介設計研發(fā)完成，并于2020-12-28向國家知識產(chǎn)權局提交的專利申請。

本基片處理裝置在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種基片處理裝置，其能夠抑制在利用混合液的蝕刻處理結束時在混合部發(fā)生突沸反應。本發(fā)明的一個方式的基片處理裝置包括升溫部、混合部和釋放部。升溫部使硫酸升溫。混合部將升溫后的硫酸與含有水分的液體混合來生成混合液。釋放部在基片處理部內(nèi)對基片釋放混合液。此外，混合部包括：合流部，其用于供升溫后的硫酸流動的硫酸供給管路與供液體流動的液體供給管路合流；和反應抑制機構，其抑制合流部中的升溫后的硫酸與液體的反應。

本發(fā)明授權基片處理裝置在權利要求書中公布了：1.一種基片處理裝置，其特征在于，包括： 使硫酸升溫的升溫部； 將升溫后的硫酸與含有水分的液體混合來生成混合液的混合部；和 在基片處理部內(nèi)對基片釋放所述混合液的釋放部， 所述混合部包括： 合流部，其用于供升溫后的硫酸流動的硫酸供給管路與供所述液體流動的液體供給管路合流；和 反應抑制機構，其抑制所述合流部中的升溫后的硫酸與所述液體的反應， 所述反應抑制機構由設置在所述液體供給管路的U字形的配管緩沖部構成，所述配管緩沖部的最上部設置在比所述合流部高的位置， 所述液體含有臭氧水或氫水。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢嗳?a target="_blank" rel="noopener noreferrer nofollow" href="https://iptop.www.hzsmkbearing.com.cn/list?keyword=%E4%B8%9C%E4%BA%AC%E6%AF%85%E5%8A%9B%E7%A7%91%E5%88%9B%E6%A0%AA%E5%BC%8F%E4%BC%9A%E7%A4%BE&temp=1">東京毅力科創(chuàng)株式會社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。