福建省晉華集成電路有限公司顏逸飛獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉福建省晉華集成電路有限公司申請的專利存儲器獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115000069B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-16發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210383675.3，技術領域涉及：H10B12/00；該發明授權存儲器是由顏逸飛;馮立偉設計研發完成，并于2020-04-14向國家知識產權局提交的專利申請。
本存儲器在說明書摘要公布了：本發明提供了一種存儲器，通過在所述襯底上形成多個遮蔽圖案，至少部分遮蔽圖案位于所述字線結構上且延伸至填充剩余深度的字線溝槽，所述遮蔽圖案可以同時作為襯底上的遮蔽層和保護所述字線結構的柵絕緣層，相較于現有的存儲器的形成方法，本發明可以省略去除襯底上的柵絕緣層、柵介質層以及在襯底上重新形成遮蔽層的步驟，從而簡化了存儲器的制備工藝，提高了制備的效率，并且不會對存儲器的性能產生影響；并且，通過第一氣隙和第二氣隙可以減小導電圖案之間的寄生電容，提高存儲器的性能。
本發明授權存儲器在權利要求書中公布了：1.一種存儲器，其特征在于，包括： 襯底，所述襯底中包括沿著第一預定方向延伸的多個字線溝槽，所述字線溝槽內具有柵介質層，所述柵介質層覆蓋所述字線溝槽的內壁； 多條字線結構，位于所述柵介質層上，并填充部分深度的字線溝槽；以及， 多個遮蔽圖案，位于所述襯底上，至少部分遮蔽圖案位于所述字線結構上且延伸至填充剩余深度的字線溝槽，所述位于所述字線結構上的遮蔽圖案還延伸至所述襯底的頂表面； 所述遮蔽圖案包括第一膜層，所述第一膜層至少覆蓋剩余深度的字線溝槽的側壁并與所述柵介質層直接接觸，所述第一膜層還延伸至所述襯底上，位于所述字線溝槽內的所述第一膜層的頂表面與位于所述襯底上的所述第一膜層的頂表面不在同一平面上。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人福建省晉華集成電路有限公司，其通訊地址為：362200 福建省泉州市晉江市集成電路科學園聯華大道88號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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