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          深圳市云在上半導體材料有限公司;湖南湘芯新材料有限公司;湖北云在上半導體有限公司張桂華獲國家專利權

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          龍圖騰網獲悉深圳市云在上半導體材料有限公司;湖南湘芯新材料有限公司;湖北云在上半導體有限公司申請的專利用于刻蝕加工的陶瓷靜電吸盤獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN120127048B 。

          龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-16發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202510595462.0,技術領域涉及:H01L21/683;該發明授權用于刻蝕加工的陶瓷靜電吸盤是由張桂華;劉暢;胡炳煌;王天意設計研發完成,并于2025-05-09向國家知識產權局提交的專利申請。

          用于刻蝕加工的陶瓷靜電吸盤在說明書摘要公布了:本申請公開了用于刻蝕加工的陶瓷靜電吸盤,所述用于刻蝕加工的陶瓷靜電吸盤包括:陶瓷靜電吸盤本體,所述陶瓷靜電吸盤本體的基板內部設置有雙渦形管路組件、冷水循環系統;為了解決現有技術中普通的循環水冷系統針對靜電吸盤進行冷卻時,冷卻不均勻的問題,本申請通過雙渦形管路組件的雙渦形結構,一個渦形管道冷卻水由外圍向中心流動,另一個渦形管道冷卻水由中心向外圍流動,通過雙渦形管道對流設置,保證靜電吸盤冷卻更加均勻,避免了單一流道中冷卻水逐漸升溫導致的冷卻不均勻問題,進一步的解決了普通循環水冷結構在長時間工作后,由于冷卻水溫度變化導致對靜電吸盤降溫變化的問題。

          本發明授權用于刻蝕加工的陶瓷靜電吸盤在權利要求書中公布了:1.用于刻蝕加工的陶瓷靜電吸盤,其特征在于:所述用于刻蝕加工的陶瓷靜電吸盤包括: 陶瓷靜電吸盤本體(1),所述陶瓷靜電吸盤本體(1)的基板內部設置有雙渦形管路組件(2); 冷水循環系統,所述冷水循環系統與雙渦形管路組件(2)之間連接,所述冷水循環系統用于陶瓷靜電吸盤本體(1)進行降溫冷卻; 所述冷水循環系統包括管道結構(3)、過濾單元(4)、冷卻單元(5)和恒溫控制單元(6),所述過濾單元(4)用于對循環水進行過濾處理; 所述冷卻單元(5)用于對循環水進行降溫; 所述恒溫控制單元(6)用于對降溫后的循環水重新升溫至恒定溫度; 所述雙渦形管路組件(2)包括渦形管A(201)、渦形管B(202)、導熱板(207)和混流部件(208),所述渦形管A(201)和渦形管B(202)均固定設置在陶瓷靜電吸盤本體(1)的基板內部,所述渦形管A(201)的一端設置有進口A(203),所述渦形管A(201)的另一端設置有出口A(204),所述渦形管B(202)的一端設置有進口B(206),所述渦形管B(202)的另一端設置有出口B(205); 所述渦形管A(201)和渦形管B(202)處固定連接有導熱板(207),所述導熱板(207)設置有若干個,若干個所述導熱板(207)呈放射形設置; 所述渦形管A(201)和渦形管B(202)之間固定設置有若干混流部件(208),所述混流部件(208)包括圓形固定殼(2081)、中軸(2082)、外套輥(2083)和弧形葉片(2084),所述圓形固定殼(2081)與渦形管A(201)和渦形管B(202)之間固定且相互連通,所述圓形固定殼(2081)的內腔中心位置處固定連接有中軸(2082),所述中軸(2082)上轉動連接有外套輥(2083),所述外套輥(2083)的弧形壁處固定連接有弧形葉片(2084),所述弧形葉片(2084)設置有若干個,若干個所述弧形葉片(2084)等距固定在外套輥(2083)的弧形壁處。

          如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人深圳市云在上半導體材料有限公司;湖南湘芯新材料有限公司;湖北云在上半導體有限公司,其通訊地址為:518106 廣東省深圳市光明區馬田街道新莊社區大圍平塘A5棟202;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。

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