上海大學(xué)陳朋獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉上海大學(xué)申請(qǐng)的專利一種超寬帶合成光源的面陣譜域干涉半導(dǎo)體多層膜測(cè)量裝置及其實(shí)現(xiàn)方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN120351867B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-16發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202510845630.7,技術(shù)領(lǐng)域涉及:G01B11/24;該發(fā)明授權(quán)一種超寬帶合成光源的面陣譜域干涉半導(dǎo)體多層膜測(cè)量裝置及其實(shí)現(xiàn)方法是由陳朋;周永昊;于瀛潔;林星羽;莫佳鑫;彭樂源設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2025-06-23向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本一種超寬帶合成光源的面陣譜域干涉半導(dǎo)體多層膜測(cè)量裝置及其實(shí)現(xiàn)方法在說明書摘要公布了:本發(fā)明公開了一種超寬帶合成光源的面陣譜域干涉半導(dǎo)體多層膜測(cè)量裝置與實(shí)現(xiàn)方法,屬于精密光學(xué)測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明用于面陣譜域干涉檢測(cè)裝置包括超寬帶合成光源、干涉系統(tǒng)、面陣光譜儀、半導(dǎo)體多層膜被測(cè)件等。所提出的測(cè)量方法以具有良好干涉性的超寬帶合成光源,激發(fā)多層膜分層輪廓和跨尺度厚度分布全場(chǎng)信息,由干涉系統(tǒng)形成載波多參數(shù)的干涉信號(hào),并由面陣光譜儀記錄干涉信息,最后通過陣列頻譜分析,同步獲得多層膜分層輪廓及厚度分布信息。
本發(fā)明授權(quán)一種超寬帶合成光源的面陣譜域干涉半導(dǎo)體多層膜測(cè)量裝置及其實(shí)現(xiàn)方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種超寬帶合成光源的面陣譜域干涉半導(dǎo)體多層膜測(cè)量裝置,其特征在于,包括超寬帶合成光源、干涉系統(tǒng)、面陣光譜儀、半導(dǎo)體多層膜被測(cè)件和計(jì)算機(jī)處理單元;所述超寬帶合成光源是由多個(gè)可調(diào)諧激光器通過非線性光纖耦合生成的連續(xù)光譜;所述的干涉系統(tǒng)包括空間濾波器、準(zhǔn)直透鏡、分光鏡、參考鏡、物鏡和成像透鏡;所述超寬帶合成光源的面陣譜域干涉半導(dǎo)體多層膜測(cè)量裝置的實(shí)現(xiàn)方法,包括以下步驟: 步驟S1:系統(tǒng)標(biāo)定:包括腔長標(biāo)定和參考鏡誤差標(biāo)定; 步驟S2:聚焦定位:確保干涉物鏡與被測(cè)件表面處于最佳成像平面,最大化干涉條紋對(duì)比度; 步驟S3:面陣光譜數(shù)據(jù)采集:超寬帶合成光源激發(fā)多層膜反射信號(hào),面陣光譜儀單次曝光獲取干涉信號(hào)Ix,y,λ,其中,x,y表示樣品的空間坐標(biāo),λ表示波長; 步驟S4:數(shù)據(jù)重組:從獲得的面陣光譜儀采集的譜域干涉信號(hào)Ix,y,λ提取信號(hào)數(shù)據(jù)Ixi,yj,λk,其中,i=1、2…n,j=1、2…p,n、p分別是面陣光譜儀橫縱方向的像素點(diǎn);k=1、2…N,λ1...λN為波長調(diào)諧的范圍,提取光強(qiáng)信號(hào)數(shù)據(jù)Ixi,yj,λk進(jìn)行重組;重組后的信號(hào)數(shù)據(jù)形成陣列Ix,y,λk,其中λk表示第k個(gè)波長通道,由重組后的信號(hào)數(shù)據(jù)建立相位差對(duì)光強(qiáng)I的定量模型,表示第k個(gè)波長通道樣品的空間坐標(biāo)x,y位置的陣列數(shù)據(jù); 步驟S5:信息分離:對(duì)采樣權(quán)重函數(shù)進(jìn)行設(shè)計(jì),使用加權(quán)多步算法對(duì)被測(cè)件的多表面信息進(jìn)行分離; 步驟S6:分層厚度預(yù)估:基于光程差初步估算各層厚度,開展閾值檢測(cè),從而定位反射峰位置ΔLk,進(jìn)行初始厚度計(jì)算:其中,Δlk為第k層光程差峰值位置,為材料參考折射率; 步驟S7:厚度與三維輪廓計(jì)算:根據(jù)光強(qiáng)陣列數(shù)據(jù),基于所述步驟S6的初始厚度作為迭代優(yōu)化的起點(diǎn),進(jìn)行厚度計(jì)算,基于所述步驟S6的初始厚度提供每一層厚度的空間分布,進(jìn)行三維輪廓重構(gòu),輸出厚度分布dkx,y和三維輪廓hkx,y; 步驟S8:層間耦合補(bǔ)償與優(yōu)化:基于所述步驟S7的輸出的厚度dkx,y和折射率nkλ構(gòu)建傳輸矩陣T,計(jì)算理論干涉信號(hào)Imodelλ,基于所述的理論干涉信號(hào)Imodelλ和實(shí)測(cè)干涉數(shù)據(jù)Imeasλ修正層間多次反射引起的耦合誤差,提升反演精度,包括傳輸矩陣反演和遺傳算法優(yōu)化。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人上海大學(xué),其通訊地址為:200444 上海市寶山區(qū)上大路99號(hào);或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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