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          天津工業大學楊勇獲國家專利權

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          龍圖騰網獲悉天津工業大學申請的專利一種基于光照感知機制的曝光校正方法與系統獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN120451484B

          龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-16發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202510956129.8,技術領域涉及:G06V10/24;該發明授權一種基于光照感知機制的曝光校正方法與系統是由楊勇;許亞寧;任恒;黃淑英;張龍設計研發完成,并于2025-07-11向國家知識產權局提交的專利申請。

          一種基于光照感知機制的曝光校正方法與系統在說明書摘要公布了:本發明涉及圖像處理技術領域,具體公開了一種基于光照感知機制的曝光校正方法與系統,方法包括:獲得非均勻曝光圖像;生成欠曝光區域、正常曝光區域以及過曝光區域的掩碼;非均勻曝光圖像通過卷積操作,提取得到初始特征圖,所述初始特征圖依次通過多次下采樣和上采樣,得到尺度不同的特征圖,然后通過卷積操作得到處理后的特征圖,將處理后的特征圖與非均勻曝光圖像進行融合,得到曝光均勻的圖像;對初始特征圖和尺度不同的特征圖,分別利用掩碼進行局部特征提取和全局曝光校正。本發明針對不同區域采取不同的方式進行處理,并強化不同區域之間的感知與信息交互,能夠改善不均勻曝光圖像的質量,最終生成一幅曝光均勻的圖像。

          本發明授權一種基于光照感知機制的曝光校正方法與系統在權利要求書中公布了:1.一種基于光照感知機制的曝光校正方法,其特征在于,包括以下步驟: S1:獲得非均勻曝光圖像; S2:根據非均勻曝光圖像,生成欠曝光區域、正常曝光區域以及過曝光區域的掩碼; 步驟S2包括以下步驟: S2.1:計算非均勻曝光圖像的三通道的平均值,得到平均值的圖,展平為一維向量; S2.2:隨機初始化3個聚類中心,計算一維向量的每個像素點與聚類中心之間的歐氏距離,將像素點分配給與其歐氏距離最短的聚類中心,將每個聚類中的所有像素點取平均以更新聚類中心; S2.3:重復步驟S2.2,當新舊聚類中心之間的絕對差異小于預設閾值時,聚類操作終止;得到欠曝光區域、正常曝光區域以及過曝光區域的掩碼; S3:非均勻曝光圖像通過卷積操作,提取得到初始特征圖,所述初始特征圖依次通過多次下采樣和上采樣,得到尺度不同的特征圖,然后通過卷積操作得到處理后的特征圖,將處理后的特征圖與非均勻曝光圖像進行融合,得到曝光均勻的圖像; 其中,對初始特征圖和尺度不同的特征圖,分別利用掩碼進行局部特征提取和全局曝光校正; 利用掩碼進行局部特征提取的具體過程為: S3.11:使用空間注意力,根據輸入的特征圖,得到增強后的特征; S3.12:根據增強后的特征,通過卷積核生成器為不同的光照區域生成對應的卷積核; S3.13:利用對應的卷積核,對增強后的特征進行光照感知的特征提取,得到不同區域的特征圖; S3.14:將不同區域的特征圖與相應的掩碼相乘,然后相加,得到含有局部特征的特征圖; 利用掩碼進行全局曝光校正的具體過程為: 對含有局部特征的特征圖進行歸一化處理,輸入光照感知注意力模塊,將含有局部特征的特征圖作為殘差加入光照感知注意力模塊的輸出中,得到摘要特征;所述光照感知注意力模塊用于利用掩碼,以正常曝光區域的特征作為引導,校正欠曝光區域與過曝光區域的特征; 對摘要特征進行歸一化處理,再通過前饋神經網絡,得到精煉后的特征,將精煉后的特征與摘要特征融合,得到輸出特征; 光照感知注意力模塊的具體過程為: 利用歸一化處理后的含有局部特征的特征圖,得到Q向量、K向量和V向量,結合掩碼,得到不同曝光區域的Q向量、K向量和V向量; 利用正常曝光區域的Q向量,分別與不同曝光區域的K向量和V向量,計算得到不同曝光區域的注意力權重圖; 對不同曝光區域的注意力權重圖求和,得到最終的權重圖。

          如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人天津工業大學,其通訊地址為:300387 天津市西青區賓水西道399號;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。

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