蘇州新維度微納科技有限公司劉澤獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉蘇州新維度微納科技有限公司申請的專利微納結構、微納結構的制備方法及應用獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN120522973B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-16發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202511015173.5,技術領域涉及:G03F7/00;該發明授權微納結構、微納結構的制備方法及應用是由劉澤設計研發完成,并于2025-07-23向國家知識產權局提交的專利申請。
本微納結構、微納結構的制備方法及應用在說明書摘要公布了:本發明公開了一種微納結構、微納結構的制備方法及應用,通過在模板的壓印腔中注入過量的壓印膠,然后刮除多余壓印膠,在模板的第一表面形成厚度一致的壓印膠層,然后將膠層直接與襯底進行壓印,可以獲得殘膠層厚度一致的微納結構,解決了殘膠厚度不均的問題,避免殘膠層厚度不一致影響后續結構轉移工藝。
本發明授權微納結構、微納結構的制備方法及應用在權利要求書中公布了:1.一種微納結構的制備方法,其特征在于,所述制備方法包括: 提供一模板,所述模板包括相背設置的第一表面和第二表面,且所述第一表面設有凹陷設置的壓印腔; 向所述壓印腔中填充壓印膠,并使所述壓印膠溢出至所述壓印腔之外; 刮除高于第一表面設定厚度的壓印膠,以在所述第一表面上形成厚度一致的壓印膠層; 將襯底壓印至所述壓印膠層上,并固化所述壓印膠; 移除所述模板,獲得微納結構。
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