佳能株式會社矢田裕紀(jì)獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉佳能株式會社申請的專利光源裝置、曝光裝置以及物品的制造方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN114137798B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-12發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202111008083.5，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F7/20；該發(fā)明授權(quán)光源裝置、曝光裝置以及物品的制造方法是由矢田裕紀(jì);晝間健太郎;中山周吾設(shè)計研發(fā)完成，并于2021-08-31向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本光源裝置、曝光裝置以及物品的制造方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及光源裝置、曝光裝置以及物品的制造方法。降低反射鏡內(nèi)的溫度梯度。光源裝置具有：發(fā)光部；反射鏡，反射來自所述發(fā)光部的光；保持部件，保持所述反射鏡；以及基座，固定所述保持部件，所述保持部件與所述基座接觸的接觸面積小于所述保持部件與所述反射鏡接觸的接觸面積。
本發(fā)明授權(quán)光源裝置、曝光裝置以及物品的制造方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種光源裝置，其特征在于，具有： 發(fā)光部； 反射鏡，反射來自所述發(fā)光部的光； 保持部件，保持所述反射鏡；以及 基座，固定所述保持部件， 所述保持部件與所述基座接觸的接觸面積小于所述保持部件與所述反射鏡接觸的接觸面積， 所述保持部件的材質(zhì)是熱傳導(dǎo)率比所述基座低的材質(zhì)。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人佳能株式會社，其通訊地址為：日本東京；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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1、本報告根據(jù)公開、合法渠道獲得相關(guān)數(shù)據(jù)和信息，力求客觀、公正，但并不保證數(shù)據(jù)的最終完整性和準(zhǔn)確性。
2、報告中的分析和結(jié)論僅反映本公司于發(fā)布本報告當(dāng)日的職業(yè)理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔(dān)任何法律責(zé)任的依據(jù)或者憑證。
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