深圳明銳理想科技有限公司張超獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉深圳明銳理想科技有限公司申請的專利一種檢測方法、裝置以及光學檢測設備獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN113903674B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-12發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202111112842.2,技術領域涉及:H01L21/66;該發明授權一種檢測方法、裝置以及光學檢測設備是由張超;康豪;張駿;鄧柳明設計研發完成,并于2021-09-18向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種檢測方法、裝置以及光學檢測設備在說明書摘要公布了:本發明涉及半導體檢測技術領域,公開了一種檢測方法、檢測裝置以及光學檢測設備,檢測方法包括:控制光源向待測物品照射光束,光束經過待測物品反射部分穿過分光鏡入射至第一圖像采集裝置,部分經過分光鏡反射至第二圖像采集裝置;獲取第一圖像采集裝置根據入射的光束所采集到的第一圖像,以及,第二圖像采集裝置根據入射的光束所采集到的第二圖像;分別對第一圖像和第二圖像進行二值圖像處理;對進行二值圖像處理后的第一圖像和第二圖像進行檢測區域定位;對進行檢測區域定位后的第一圖像進行異物檢測,以及,對進行檢測區域定位后的第二圖像進行金線檢測。通過上述方式,本發明實施例能夠實現對半導體材料表面的灰塵顆粒或者金線位置進行檢測。
本發明授權一種檢測方法、裝置以及光學檢測設備在權利要求書中公布了:1.一種檢測方法,應用于光學檢測設備,所述光學檢測設備包括架體、第一圖像采集裝置、第二圖像采集裝置、分光鏡和光源,所述第一圖像采集裝置和第二圖像采集裝置均設置于所述架體,所述第二圖像采集裝置的光軸和所述第一圖像采集裝置的光軸相互垂直,所述分光鏡設置于架體,并且所述分光鏡設置于所述第一圖像采集裝置的光軸和第二圖像采集裝置的光軸交匯處,所述光源設置于所述架體,其特征在于,包括: 控制所述光源向待測物品照射光束,其中,所述光束經過待測物品反射部分穿過所述分光鏡入射至所述第一圖像采集裝置,部分經過所述分光鏡反射至所述第二圖像采集裝置; 獲取所述第一圖像采集裝置根據入射的光束所采集到的第一圖像,以及,所述第二圖像采集裝置根據入射的光束所采集到的第二圖像; 分別對所述第一圖像和第二圖像進行二值圖像處理; 對進行二值圖像處理后的所述第一圖像和所述第二圖像進行檢測區域定位; 對進行檢測區域定位后的所述第一圖像進行異物檢測,以及,對進行檢測區域定位后的所述第二圖像進行金線檢測。
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