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龍圖騰網(wǎng)獲悉深圳市拉普拉斯能源技術(shù)有限公司申請(qǐng)的專利沉積處理裝置獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN115323359B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-12發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202211108837.9，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C23C16/50；該發(fā)明授權(quán)沉積處理裝置是由林佳繼;張武;劉群設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2022-09-13向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本沉積處理裝置在說明書摘要公布了：本發(fā)明屬于膜層沉積技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種沉積處理裝置，沉積處理裝置包括爐體，爐體內(nèi)設(shè)有進(jìn)氣板和抽氣板，抽氣板與進(jìn)氣板相對(duì)設(shè)置，以能夠使基體設(shè)置于二者之間；進(jìn)氣板和抽氣板上具有均勻分布的第一氣孔，進(jìn)氣板和抽氣板上還具有第二氣孔，第二氣孔與第一氣孔通過布?xì)馔ǖ肋B通以能夠使氣體流通于第一氣孔和第二氣孔之間。通過在抽氣板與進(jìn)氣板上均勻設(shè)置第一氣孔，并將基體置在抽氣板與進(jìn)氣板之間，使基體的反應(yīng)區(qū)域被氣體均勻覆蓋，提高沉積膜層的均勻性。

本發(fā)明授權(quán)沉積處理裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.沉積處理裝置，用于等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積，其特征在于，包括： 爐體7，所述爐體7用于容納基體5； 進(jìn)氣板4，所述進(jìn)氣板4設(shè)置于所述爐體7內(nèi)； 抽氣板3，所述抽氣板3與所述進(jìn)氣板4相對(duì)設(shè)置于所述爐體7內(nèi)，以能夠使所述基體5置于二者之間；其中： 所述進(jìn)氣板4和所述抽氣板3上設(shè)有均勻布置的第一氣孔1、與外部設(shè)備連通的第二氣孔2以及連通所述第一氣孔1和所述第二氣孔2的布?xì)馔ǖ?，使所述基體5的反應(yīng)區(qū)域被氣體均勻覆蓋，提高沉積膜層的均勻性； 所述布?xì)馔ǖ?還包括一級(jí)布?xì)馔ǖ?1以及二級(jí)布?xì)馔ǖ?2，所述第二氣孔2連通所述一級(jí)布?xì)馔ǖ?1，所述一級(jí)布?xì)馔ǖ?1連通至少一個(gè)所述二級(jí)布?xì)馔ǖ?2，所述二級(jí)布?xì)馔ǖ?2連通多個(gè)所述第一氣孔1； 所述布?xì)馔ǖ?包括三級(jí)布?xì)馔ǖ?3，若干所述第一氣孔1經(jīng)所述三級(jí)布?xì)馔ǖ?3連接形成布?xì)鈫卧鄠€(gè)所述布?xì)鈫卧c所述二級(jí)布?xì)馔ǖ?2連通。

如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人深圳市拉普拉斯能源技術(shù)有限公司，其通訊地址為：518122 廣東省深圳市坪山區(qū)坑梓街道吉康路1號(hào)；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。