中核四0四有限公司王澤杰獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉中核四0四有限公司申請的專利一種裂變電離室鈦基金屬膜及其制備方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN116356391B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-12發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202310389365.7,技術領域涉及:C25D5/28;該發明授權一種裂變電離室鈦基金屬膜及其制備方法是由王澤杰;鐘軼強;陳義武;王海龍;王悅;秦美勛;唐江科;王新鵬;田振剛;孟樹文;程元芬;金永恒;韓均帥;付娥;李曉其設計研發完成,并于2023-04-11向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種裂變電離室鈦基金屬膜及其制備方法在說明書摘要公布了:本發明提供了一種裂變電離室鈦基金屬膜及其制備方法。本發明的裂變電離室鈦基金屬膜的制備方法,包括如下步驟:S1:制備LiCl?KCl?UCl3熔鹽體系;S2:分別對鈾金屬圓柱錠陽極和鈦基體陰極進行表面處理,得到預處理陽極和預處理陰極;S3:將預處理陽極和預處理陰極插入LiCl?KCl?UCl3熔鹽體系中,依次進行活化和電鍍,得到鍍件;S4:對鍍件進行熱處理、冷卻、清洗、干燥,得到裂變電離室鈦基金屬膜。本發明的制備方法能夠在鈦基體表面鍍上一層均勻、平整、結合力好的鈾膜,有利于解決國產裂變電離室所存在的精度低、易損壞、效果差等問題。
本發明授權一種裂變電離室鈦基金屬膜及其制備方法在權利要求書中公布了:1.一種裂變電離室鈦基金屬膜的制備方法,其特征在于,包括如下步驟: S1:制備LiCl-KCl-UCl3熔鹽體系; S2:分別對鈾金屬圓柱錠陽極和鈦基體陰極進行表面處理,得到預處理陽極和預處理陰極; S3:將預處理陽極和預處理陰極插入LiCl-KCl-UCl3熔鹽體系中,依次進行活化和電鍍,得到鍍件; S4:對鍍件進行熱處理、冷卻、清洗、干燥,得到裂變電離室鈦基金屬膜; 步驟S1中,LiCl-KCl-UCl3熔鹽體系的制備方法包括:將LiCl、KCl、CdCl2混勻并加熱熔化后,用鉬網逐次加入過量的鈾金屬切屑進行反應,LiCl、KCl和CdCl2之間的質量配比為210-220:255-270:19-23,反應溫度為450-750℃,反應時間為24-30h; 步驟S2中,對鈦基體陰極進行表面處理包括依次進行打磨拋光、丙酮除油、去離子水清洗、酸洗、去離子水清洗和無水乙醇脫水;其中,打磨拋光至鈦基體陰極的粗糙度Ra≤0.2; 步驟S3中,活化條件包括:活化電流為500-2000mA,活化時間為30-120s;電鍍條件包括:電流密度5-80mAcm2,電鍍電流為15-240mA,電鍍溫度為450-750℃,電鍍時間為4.5-72min。
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