西北工業大學寧波研究院;西北工業大學虞益挺獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉西北工業大學寧波研究院;西北工業大學申請的專利一種基于結構色的迷彩隱身蒙皮及其制備方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN116855897B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-12發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202310575944.0,技術領域涉及:C23C14/30;該發明授權一種基于結構色的迷彩隱身蒙皮及其制備方法是由虞益挺;趙建村;霍怡惠;仰鈞毅設計研發完成,并于2023-05-22向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種基于結構色的迷彩隱身蒙皮及其制備方法在說明書摘要公布了:本發明公開了一種基于結構色的迷彩隱身蒙皮,包括從下到上依次設置的基底層、第一反射層、中間介質層、第二反射層和頂層保護層,第一反射層的材料選自Al、Ag或Au中的一種,本發明還提供了基于結構色的迷彩隱身蒙皮的制備方法,與現有技術相比,本發明制得的基于結構色的迷彩隱身蒙皮性能穩定,耐輻射,使用壽命長,顏色定制化能力強,可定制多種顏色,同時,本發明迷彩蒙皮制備原料易得,制備方法簡單,不僅能實現批量化制備,而且綠色環保、無污染。
本發明授權一種基于結構色的迷彩隱身蒙皮及其制備方法在權利要求書中公布了:1.一種基于結構色的迷彩隱身蒙皮的制備方法,其特征在于,所述制備方法具體包括如下步驟: 以柔性鋁箔紙為基底,膜層結構為AlSiAgSiO2, S1.將基底清洗烘干后放入電子束蒸發鍍膜機真空腔室中,然后將真空室的真空度抽至<3.0x10-3Pa,再用充滿氬氣的離子源清洗基底; S2.根據實際需求設計膜系,確定各層鍍膜材料及膜層厚度為:200nmAl20~60nmSi15nmAg10nmSiO2; S3.根據步驟S2設計的膜系,在步驟S1得到的基底層(1)上鍍制第一反射層(2),成膜速率為0.3nms; S4.利用電子束蒸發鍍膜機在步驟S3得到的第一反射層(2)上蒸鍍中間介質層(3),成膜速率為0.2nms; S5.利用電子束蒸發鍍膜機在步驟S4得到的中間介質層(3)上蒸鍍第二反射層(4),成膜速率為0.2nms; S6.利用電子束蒸發鍍膜機在步驟S5得到的第二反射層(4)上蒸鍍頂層保護層(5)得到基于結構色的迷彩隱身蒙皮,成膜速率為0.2nms。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人西北工業大學寧波研究院;西北工業大學,其通訊地址為:315000 浙江省寧波市高新區清逸路218弄;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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