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龍圖騰網獲悉北京航空航天大學申請的專利一種沉積Dy、Hf改性AlCoCrFeNi高熵合金薄膜提高TiAl合金抗氧化性能的方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN118932307B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202410998885.2，技術領域涉及：C23C14/35；該發明授權一種沉積Dy、Hf改性AlCoCrFeNi高熵合金薄膜提高TiAl合金抗氧化性能的方法是由周春根;張碩;張園咪設計研發完成，并于2024-07-24向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種沉積Dy、Hf改性AlCoCrFeNi高熵合金薄膜提高TiAl合金抗氧化性能的方法在說明書摘要公布了：本申請公開了一種沉積Dy、Hf改性AlCoCrFeNi高熵合金薄膜提高TiAl合金抗氧化性能的方法，涉及高熵合金薄膜制備領域，包括以下步驟：以Ti、Al、Nb為合成原料，利用真空非自耗電弧熔煉技術，制備Ti?45Al?8Nb基體；S2、稱取純金屬原料Al、Co、Cr、Fe、Ni以及純活性原料Dy、Hf，利用真空非自耗電弧熔煉技術制備得到改性AlCoCrFeNi高熵合金靶材；S3、將步驟S1中的Ti?45Al?8Nb基體安裝在磁控濺射設備的夾具上，將步驟S2中改性AlCoCrFeNi高熵合金靶材放置在射頻靶上，利用磁控濺射技術，得到覆蓋改性AlCoCrFeNi高熵合金薄膜的TiAl合金。因此，本申請采用上述的一種沉積Dy、Hf改性AlCoCrFeNi高熵合金薄膜提高TiAl合金抗氧化性能的方法，得到的改性AlCoCrFeNi高熵合金薄膜提高了TiAl合金的抗氧化性能。

本發明授權一種沉積Dy、Hf改性AlCoCrFeNi高熵合金薄膜提高TiAl合金抗氧化性能的方法在權利要求書中公布了：1.一種沉積Dy、Hf改性AlCoCrFeNi高熵合金薄膜提高TiAl合金抗氧化性能的方法，其特征在于，包括以下步驟： S1、以Ti、Al、Nb為合成原料，利用真空非自耗電弧熔煉技術，制備Ti-45Al-8Nb基體； S2、稱取純金屬原料Al、Co、Cr、Fe、Ni以及純活性原料Dy、Hf，利用真空非自耗電弧熔煉技術制備得到改性AlCoCrFeNi高熵合金靶材； 改性AlCoCrFeNi高熵合金靶材中，Dy、Hf的摻雜量為0.01-0.03%at； 改性AlCoCrFeNi高熵合金靶材中，Al、Co、Cr、Fe、Ni的原子比為1：1：1：1：1； S3、將步驟S1中的Ti-45Al-8Nb基體安裝在磁控濺射設備的夾具上，將步驟S2中改性AlCoCrFeNi高熵合金靶材放置在射頻靶上，利用磁控濺射技術，得到覆蓋改性AlCoCrFeNi高熵合金薄膜的TiAl合金； 步驟S3中，磁控濺射參數為：Ti-45Al-8Nb基體的溫度80~100°C，AlCoCrFeNi高熵合金靶材的功率300W，濺射時間7~8h，氣壓0.4Pa，真空度1x10-4~6x10-4Pa。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人北京航空航天大學，其通訊地址為：100191 北京市海淀區學院路37號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。