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龍圖騰網獲悉華中科技大學申請的專利一種基于光學衍射的角分辨偏振散射套刻誤差提取方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN118981147B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202411065238.2，技術領域涉及：G03F7/20；該發明授權一種基于光學衍射的角分辨偏振散射套刻誤差提取方法是由江浩;陳侃;劉佳敏;劉世元;崔雪;王威設計研發完成，并于2024-08-05向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種基于光學衍射的角分辨偏振散射套刻誤差提取方法在說明書摘要公布了：本申請屬于光刻及神經網絡領域，具體公開了一種基于光學衍射的角分辨偏振散射套刻誤差提取方法，包括：將待測套刻標記的物鏡后焦面頻域像做偏振差分，得到所述待測套刻標記對應的目標圖像；將所述目標圖像輸入到訓練完成的誤差提取網絡中，得到所述待測套刻標記的套刻誤差值；其中，所述誤差提取網絡是基于訓練樣本和所述訓練樣本對應的識別標簽進行訓練得到的；所述訓練樣本是利用套刻標記的納米結構形貌參數、材料光學常數結合預審測量條件，并通過已建立的套刻標記正向光學特性模型進行偏振得到的。通過本申請能夠提高套刻誤差提取的準確度。

本發明授權一種基于光學衍射的角分辨偏振散射套刻誤差提取方法在權利要求書中公布了：1.一種基于光學衍射的角分辨偏振散射套刻誤差提取方法，其特征在于，包括： 將待測套刻標記的物鏡后焦面頻域像做偏振差分，得到所述待測套刻標記對應的目標圖像； 將所述目標圖像輸入到訓練完成的誤差提取網絡中，得到所述待測套刻標記的套刻誤差值； 其中，所述誤差提取網絡是基于訓練樣本和所述訓練樣本對應的識別標簽進行訓練得到的；所述訓練樣本是利用套刻標記的納米結構形貌參數、材料光學常數結合預設測量條件，并通過已建立的套刻標記正向光學特性模型進行偏振得到的； 所述識別標簽是基于訓練樣本對應的套刻誤差理論值確定的，所述套刻誤差理論值的獲取方法包括： 將套刻標記的納米結構形貌參數、材料光學常數以及預設的測量條件代入至分振幅型檢偏角分辨散射儀系統模型中，得到基于嚴格耦合波分析的套刻標記正向光學特性模型，并基于所述套刻標記正向光學特性模型對入射光進行分析，獲取套刻誤差的交叉極化物鏡后焦面頻域像； 根據所述納米結構形貌參數和套刻標記正向光學特性模型，在預設偏差范圍內對所述套刻標記的結構參數進行隨機取值，得到交叉極化物鏡后焦面頻域像和套刻誤差； 將所述交叉極化物鏡后焦面頻域像作為訓練樣本，將所述套刻誤差作為理論提取值。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人華中科技大學，其通訊地址為：430074 湖北省武漢市洪山區珞喻路1037號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。