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龍圖騰網獲悉卡爾蔡司SMT有限責任公司申請的專利用于微光刻的投射光學單元和制造結構化部件的方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114008532B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080044731.X，技術領域涉及：G03F7/20；該發明授權用于微光刻的投射光學單元和制造結構化部件的方法是由H.J.羅斯塔爾斯基;H.穆恩斯;C.門科設計研發完成，并于2020-06-18向國家知識產權局提交的專利申請。

本用于微光刻的投射光學單元和制造結構化部件的方法在說明書摘要公布了：本發明關于一種用于微光刻的投射光學單元以及一種制造結構化部件的方法。一種用于微光刻的投射光學單元包含多個反射鏡，其用于將成像光301、510、601、701、801沿著從位于物面OP上的物場5到位于像面IP上的像場9的成像光束路徑引導，其中數值孔徑NA具有大于0.5的數值，其中多個反射鏡包含用于掠入射的至少三個反射鏡GI反射鏡，其使中心物場點的主射線以大于45°的入射角偏轉，其中從物場到像場通過操作中的投射光學單元7、300、500、600、700、800的不同偏振光束，由于幾何偏振旋轉而在其偏振方向上旋轉不同旋轉角，其中投射光學單元包含反射鏡A的第一群組及反射鏡B的第二群組，前述反射鏡的第二群組由在像側的前述多個反射鏡的最后兩個反射鏡Mn?1、Mn構成，其中投射光學單元的總幾何偏振旋轉|Z3A+Z3B|的光瞳相關性中的線性部分小于反射鏡的第二群組的幾何偏振旋轉|Z3B|的光瞳相關性中的線性部分的20％。

本發明授權用于微光刻的投射光學單元和制造結構化部件的方法在權利要求書中公布了：1.一種用于微光刻的投射光學單元，包含 多個反射鏡，用于將成像光301、501、601、701、801沿著從位于物面OP中的物場5到位于像面IP中的像場9的成像光束路徑引導，其中數值孔徑NA具有大于0.5的數值； 其中所述多個反射鏡包含用于掠入射的至少三個反射鏡GI反射鏡，其使中心物場點的主射線以大于45°的入射角偏轉； 其中從該物場5到該像場9通過操作中的該投射光學單元7、300、500、600、700、800的不同偏振光束，由于幾何偏振旋轉而在其偏振方向上旋轉不同旋轉角； 其中該投射光學單元7、300、500、600、700、800包含反射鏡的第一群組A及反射鏡的第二群組B，所述反射鏡的第二群組B由在像側的所述多個反射鏡的最后兩個反射鏡Mn-1、Mn構成，其中該投射光學單元的總幾何偏振旋轉|Z3A+Z3B|的光瞳相關性中的線性部分小于所述反射鏡的第二群組B的幾何偏振旋轉|Z3B|的光瞳相關性中的線性部分的20％； 其中針對將該物場5的中心成像到該像場9的中心的所有光束，所述旋轉角皆小于35°*NA4.5。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人卡爾蔡司SMT有限責任公司，其通訊地址為：德國上科亨；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。