ASML荷蘭有限公司林慶煌獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉ASML荷蘭有限公司申請的專利用于器件制造的方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114787710B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080078841.8，技術領域涉及：G03F7/004；該發明授權用于器件制造的方法是由林慶煌;G·里斯朋斯設計研發完成，并于2020-10-20向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于器件制造的方法在說明書摘要公布了：本發明涉及使用高敏感度極紫外EUV抗蝕劑來制造例如集成電路的器件的改進方法。本發明還涉及用于執行這種方法的集成晶片處理系統。該方法包括制造器件，該方法包括：a.將極紫外EUV抗蝕劑晶片曝光于EUV輻射，以生產經曝光的EUV抗蝕劑晶片；b.在富氧氣體環境中在約20℃至約450℃的范圍的溫度烘烤經曝光的EUV抗蝕劑晶片；c.處理經曝光的EUV抗蝕劑晶片以生產器件；其中，富氧氣體環境包括大于約21.0％體積的氧含量，并且其中，EUV抗蝕劑包括Sn、Sb、Cd、Cr、Zn、Hf、Po、Pd和Te中的一種或多種。
本發明授權用于器件制造的方法在權利要求書中公布了：1.一種用于制造器件的方法，所述方法包括： a.將極紫外，EUV，抗蝕劑晶片曝光于EUV輻射，以生產經曝光的EUV抗蝕劑晶片； b.在富氧氣體環境中以在20℃至450℃的范圍內的溫度烘烤所述經曝光的EUV抗蝕劑晶片； c.處理所述經曝光的EUV抗蝕劑晶片以生產器件； 其中，所述富氧氣體環境包括大于21.0％體積的氧含量，并且其中，所述EUV抗蝕劑包括核-殼型納米顆粒，核包括Sn、Sb、Cd、Cr、Zn、Zr、Hf、Po、Pd和Te中的一種或多種，有機殼包括一種或多種類型的配體； 其中所述方法附加地包括在烘烤步驟期間去除一種或多種副產物。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人ASML荷蘭有限公司，其通訊地址為：荷蘭維德霍溫；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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