臺灣積體電路制造股份有限公司劉瑞雄獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉臺灣積體電路制造股份有限公司申請的專利光阻劑、半導體裝置的制造方法及極紫外線微影術方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116224715B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202310028733.5，技術領域涉及：G03F7/004；該發明授權光阻劑、半導體裝置的制造方法及極紫外線微影術方法是由劉瑞雄;李柏璇;呂安云;陳冠廷;陳柏熊;林本堅設計研發完成，并于2023-01-09向國家知識產權局提交的專利申請。
本光阻劑、半導體裝置的制造方法及極紫外線微影術方法在說明書摘要公布了：一種光阻劑、半導體裝置的制造方法及極紫外線微影術方法，制造半導體裝置的方法包括以下步驟：在基板上形成光阻劑層，將光阻劑層選擇性地曝露于EUV輻射，及顯影選擇性地曝光的光阻劑層。光阻劑層的組成物包括溶劑及光敏化合物，該光敏化合物溶解于溶劑且由結合六聚體錫及兩個氯配體的分子簇化合物組成。
本發明授權光阻劑、半導體裝置的制造方法及極紫外線微影術方法在權利要求書中公布了：1.一種制造半導體裝置的方法，其特征在于，包含以下步驟： 在一基板上形成一光阻劑層； 將該光阻劑層選擇性地曝露于一極紫外線輻射；及 顯影該選擇性曝光的光阻劑層， 其中該光阻劑層具有一組成物，包含： 一溶劑；及 一光敏化合物，溶解于該溶劑且由結合六聚體錫及兩個氯配體的一分子簇化合物組成； 其中，該光敏化合物為以下結構：
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人臺灣積體電路制造股份有限公司，其通訊地址為：中國臺灣新竹市新竹科學工業園區力行六路八號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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