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龍圖騰網(wǎng)獲悉天津吉兆源科技有限公司申請的專利一種調(diào)節(jié)離子源均勻性的方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN117558606B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-09發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202310431350.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01J37/32；該發(fā)明授權(quán)一種調(diào)節(jié)離子源均勻性的方法是由李樹瑜;孟子淇設(shè)計研發(fā)完成，并于2023-04-21向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種調(diào)節(jié)離子源均勻性的方法在說明書摘要公布了：本申請?zhí)峁┑囊环N調(diào)節(jié)離子源均勻性的方法，具體步驟如下：步驟1，安裝離子源進行測試；步驟2，根據(jù)傘面接收端的傳感器所采集到離子束強度，觀察離子束均勻度是否滿意；步驟3，若離子束均勻度滿意度為否，反推強離子束對應(yīng)柵網(wǎng)的徑向位置；步驟4，拆下離子源的柵網(wǎng)，選擇柵孔安裝遮蔽組件；步驟5，重復(fù)步驟1至步驟4，直至離子束均勻度達到滿意。柵網(wǎng)上安裝有一個或多個遮蔽組件。本方法采用陶瓷螺釘固定金屬片的方式遮擋強離子束對應(yīng)的引出孔，可以根據(jù)離子源實際情況，在離子源安裝后再次調(diào)整遮擋柵網(wǎng)孔，操作便捷，有效節(jié)約重新柵網(wǎng)孔的流程及成本。

本發(fā)明授權(quán)一種調(diào)節(jié)離子源均勻性的方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種調(diào)節(jié)離子源均勻性的方法，其特征在于：具體步驟如下： 步驟1，安裝離子源進行測試，傘面接收端與離子源上、下間隔設(shè)置，測試中離子源與傘面接收端相對同軸轉(zhuǎn)動，傘面接收端均勻布置有傳感器； 步驟2，根據(jù)傘面接收端的傳感器所采集到離子束強度，形成束流分布圖，觀察離子束均勻度是否滿意； 步驟3，若離子束均勻度滿意度為是，結(jié)束調(diào)節(jié)； 若離子束均勻度滿意度為否，則根據(jù)束流分布圖確定強離子束位置，反推強離子束對應(yīng)柵網(wǎng)的徑向位置； 步驟4，拆下離子源的柵網(wǎng)，根據(jù)上一步驟獲得的徑向位置，選擇該徑向位置圓周上的柵孔作為遮蔽孔，在選定的遮蔽孔位置安裝遮蔽組件，然后重新安裝柵網(wǎng)； 步驟5，重復(fù)步驟1至步驟4，直至離子束均勻度達到滿意； 所述反推過程： d＝D·LR 其中，d為柵孔到柵網(wǎng)中心的距離，L是柵孔區(qū)中心到柵孔區(qū)邊緣的距離，D是強離子束中心點到傘面接收端中心點的距離，R是傘面接收端離子投射區(qū)中心到傘面接收端離子投射區(qū)邊緣的間距。

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