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龍圖騰網(wǎng)獲悉中冶賽迪技術(shù)研究中心有限公司申請(qǐng)的專利一種晶花檢測(cè)方法、裝置、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN116934735B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-09發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202310985762.0，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G06T7/00；該發(fā)明授權(quán)一種晶花檢測(cè)方法、裝置、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)是由龔貴波;劉貴林;劉景亞設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2023-08-07向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種晶花檢測(cè)方法、裝置、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種晶花檢測(cè)方法、裝置、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)，該方法包括：獲取待測(cè)鍍層金屬板的多個(gè)待測(cè)晶花圖像和檢測(cè)光源?相機(jī)光軸角度信息，基于檢測(cè)光源?相機(jī)光軸角度信息和多個(gè)待測(cè)晶花圖像進(jìn)行第一圖像重構(gòu)得到待測(cè)反射率信息圖像，將待測(cè)反射率信息圖像分別與多個(gè)預(yù)設(shè)二維紋理濾波器進(jìn)行檢測(cè)卷積得到多個(gè)目標(biāo)特征紋理向量圖像，將全部目標(biāo)特征紋理向量圖像輸入晶花分類模型進(jìn)行晶花尺寸分類得到目標(biāo)晶花尺寸類別，基于多個(gè)預(yù)設(shè)掃描方向計(jì)算待測(cè)反射率信息圖像的多個(gè)灰度共生矩陣的能量特征量，根據(jù)全部能量特征量得到特征能量均值確定晶花紋理分布均勻程度；通過目標(biāo)晶花尺寸類別與晶花紋理分布均勻程度提高晶花檢測(cè)精確度和智能化效率。

本發(fā)明授權(quán)一種晶花檢測(cè)方法、裝置、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)在權(quán)利要求書中公布了：1.一種晶花檢測(cè)方法，其特征在于，所述方法包括： 獲取待測(cè)鍍層金屬板的多個(gè)待測(cè)晶花圖像和檢測(cè)光源-相機(jī)光軸角度信息，并基于檢測(cè)光源-相機(jī)光軸角度信息和多個(gè)所述待測(cè)晶花圖像進(jìn)行第一圖像重構(gòu)，得到待測(cè)反射率信息圖像，多個(gè)所述待測(cè)晶花圖像由不同預(yù)設(shè)檢測(cè)方向的光源模塊先后照射待測(cè)金屬板時(shí)通過相機(jī)模塊采集得到； 將所述待測(cè)反射率信息圖像分別與多個(gè)預(yù)設(shè)二維紋理濾波器進(jìn)行檢測(cè)卷積，得到多個(gè)目標(biāo)特征紋理向量圖像； 將全部所述目標(biāo)特征紋理向量圖像輸入晶花分類模型進(jìn)行晶花尺寸分類，得到目標(biāo)晶花尺寸類別； 基于多個(gè)預(yù)設(shè)掃描方向計(jì)算所述待測(cè)反射率信息圖像的多個(gè)灰度共生矩陣對(duì)應(yīng)的能量特征量，并根據(jù)全部所述能量特征量得到的特征能量均值，以確定晶花紋理分布均勻程度，將所述目標(biāo)晶花尺寸類別與所述晶花紋理分布均勻程度作為所述待測(cè)鍍層金屬板的晶花檢測(cè)結(jié)果； 其中，所述晶花分類模型是通過多個(gè)初始晶花圖像和各所述初始晶花圖像對(duì)應(yīng)的晶花尺寸分類標(biāo)簽訓(xùn)練得到的。

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