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          哈爾濱工業(yè)大學(xué)趙光宇獲國(guó)家專利權(quán)

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          龍圖騰網(wǎng)獲悉哈爾濱工業(yè)大學(xué)申請(qǐng)的專利一種基于焊接區(qū)域偏析的鋰負(fù)極雙層界面修飾層及其制備方法和應(yīng)用獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN117374256B

          龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-09發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202311583576.0,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H01M4/36;該發(fā)明授權(quán)一種基于焊接區(qū)域偏析的鋰負(fù)極雙層界面修飾層及其制備方法和應(yīng)用是由趙光宇;白小明;張莉;強(qiáng)建杰;王羽鑫;王博涵設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2023-11-24向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

          一種基于焊接區(qū)域偏析的鋰負(fù)極雙層界面修飾層及其制備方法和應(yīng)用在說(shuō)明書摘要公布了:一種基于焊接區(qū)域偏析的鋰負(fù)極雙層界面修飾層及其制備方法和應(yīng)用,屬于固態(tài)電池技術(shù)領(lǐng)域,其方案包括以下步驟:步驟一、對(duì)固態(tài)電解質(zhì)片的表面進(jìn)行打磨拋光;步驟二、將鹵化鉍修飾在打磨后的固態(tài)電解質(zhì)片表面,得到經(jīng)鹵化鉍修飾的固態(tài)電解質(zhì)片;步驟三、將鋰負(fù)極與修飾有鹵化鉍的固態(tài)電解質(zhì)片的表面復(fù)合,在220~240℃下加熱反應(yīng)15~30min,通過(guò)控制冷卻速率來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)界面層結(jié)構(gòu)的調(diào)控,得到包含鹵化鋰和鋰鉍合金的雙層界面修飾層,其中鹵化鋰靠近固態(tài)電解質(zhì)片一側(cè),鋰鉍合金靠近鋰負(fù)極一側(cè)。本發(fā)明操作方法簡(jiǎn)單高效可靠,不需要使用操作復(fù)雜的精密儀器,而且改善效果優(yōu)異,易于大規(guī)模推廣應(yīng)用。

          本發(fā)明授權(quán)一種基于焊接區(qū)域偏析的鋰負(fù)極雙層界面修飾層及其制備方法和應(yīng)用在權(quán)利要求書中公布了:1.一種基于焊接區(qū)域偏析的鋰負(fù)極雙層界面修飾層的制備方法,所述雙層界面修飾層位于固態(tài)電解質(zhì)片和鋰負(fù)極之間,其特征在于:所述雙層界面修飾層包括鹵化鋰層和鋰鉍合金層,所述鹵化鋰層靠近固態(tài)電解質(zhì)片一側(cè),所述鋰鉍合金層靠近鋰負(fù)極一側(cè);所述基于焊接區(qū)域偏析的鋰負(fù)極雙層界面修飾層的制備方法,包括以下步驟: 步驟一、對(duì)固態(tài)電解質(zhì)片的表面進(jìn)行打磨拋光; 步驟二、將鹵化鉍修飾在打磨后的固態(tài)電解質(zhì)片表面,得到經(jīng)鹵化鉍修飾的固態(tài)電解質(zhì)片; 步驟三、將鋰負(fù)極與修飾有鹵化鉍的固態(tài)電解質(zhì)片的表面復(fù)合,在220~240℃下加熱反應(yīng)15~30min,以小于3℃min的冷卻速率降溫來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)界面層結(jié)構(gòu)的調(diào)控,得到包含鹵化鋰和鋰鉍合金的雙層界面修飾層,其中鹵化鋰靠近固態(tài)電解質(zhì)片一側(cè),鋰鉍合金靠近鋰負(fù)極一側(cè)。

          如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人哈爾濱工業(yè)大學(xué),其通訊地址為:150001 黑龍江省哈爾濱市南崗區(qū)西大直街92號(hào);或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。

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