哈爾濱工業大學張湧頎獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉哈爾濱工業大學申請的專利一種低能中性粒子束發生裝置獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN118555724B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202410610857.9,技術領域涉及:H05H1/24;該發明授權一種低能中性粒子束發生裝置是由張湧頎;鄂鵬;盧耀文;王歡設計研發完成,并于2024-05-16向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種低能中性粒子束發生裝置在說明書摘要公布了:一種低能中性粒子束發生裝置,屬于中性粒子束技術領域。離子束經由引出裝置加速進入離子束流偏轉裝置,此處設置分流通道,在沿離子源軸向通道上安裝分子泵。離子束流經過偏轉通道后進入離子束流分析裝置和中性化裝置區域,并通過帶電粒子剝離裝置。本發明基于離子源產生離子束,并通過離子束流引出裝置對離子束流進行準直以及能量調控;通過離子束流偏轉和分子泵實現束流中中性成分的剝離;基于表面掠射中和,對離子進行中性化;中性化后的束流通過帶電粒子剝離裝置,去除束流中的帶電成分。通過中性粒子束檢測裝置,可對獲得的中性粒子束的能量分布和束流密度進行定量測量,以便用于中性粒子探測器的校準標定,以及中性束刻蝕的過程研究。
本發明授權一種低能中性粒子束發生裝置在權利要求書中公布了:1.一種低能中性粒子束發生裝置,其特征在于:包括進氣口1、放電腔室2、離子引出裝置3、離子束流偏轉裝置4、分子泵5、離子束流分析裝置6、中性化裝置7、帶電粒子剝離裝置8及中性粒子束檢測裝置9;所述放電腔室2前端設置進氣口1,后端出口處設置離子引出裝置3,所述離子引出裝置3出口處設置離子束流偏轉裝置4,所述離子束流偏轉裝置4后側設置分流通道,其中一個通道上安裝分子泵5,另一個通道內設置離子束流分析裝置6和中性化裝置7,并在所述另一個通道的出口處設置帶電粒子剝離裝置8,所述中性粒子束檢測裝置9設置在帶電粒子剝離裝置8的出口處,所述中性化裝置7和離子束流分析裝置6通過傳動機構實現徑向位置的調整,所述傳動機構為直線傳動機構,且由波紋管密封,所述中性粒子束檢測裝置9包括電子槍9-1、平板能量分析裝置9-2、微通道板9-3及屏蔽外殼9-4;兩個所述電子槍9-1對稱放置在帶電粒子剝離裝置8和平板能量分析裝置9-2之間,所述平板能量分析裝置9-2包括上金屬板和下金屬板,所述上金屬板保持在地電位,下金屬板施加掃描正電壓,所述上金屬板上開有入口狹縫和出口狹縫,所述微通道板9-3安裝在出口狹縫處,微通道板9-3外側設置屏蔽外殼9-4。
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