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          中國科學院工程熱物理研究所劉子瑜獲國家專利權

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          龍圖騰網獲悉中國科學院工程熱物理研究所申請的專利一種高選擇性分離低分子量陽離子染料的GO復合膜、制備方法及其應用獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN119588172B

          龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202411916635.6,技術領域涉及:B01D67/00;該發明授權一種高選擇性分離低分子量陽離子染料的GO復合膜、制備方法及其應用是由劉子瑜;劉璐;陳海生設計研發完成,并于2024-12-24向國家知識產權局提交的專利申請。

          一種高選擇性分離低分子量陽離子染料的GO復合膜、制備方法及其應用在說明書摘要公布了:本發明公開了一種高選擇性分離低分子量陽離子染料的GO復合膜、制備方法及其應用,該復合膜通過在聚合物超濾基膜上涂覆聚多巴胺,并交替沉積復合氧化石墨烯和部分還原的氧化石墨烯構建而成。其中,復合氧化石墨烯是通過冠醚胺與部分還原的氧化石墨烯交聯制備。冠醚胺分子內部的空腔結構可與陽離子染料發生靜電相互作用,提高復合膜對陽離子染料的選擇性截留。通過控制冠醚胺結構、氧化石墨烯還原程度、復合氧化石墨烯和氧化石墨烯的負載比例等參數,可以優化復合膜的性能,實現對不同分子量和電荷類型的染料進行高效分離。該GO復合膜對低分子量陽離子染料具有高選擇性,適用于工業印染廢水處理、染料高效分離和回收及環境污染治理。

          本發明授權一種高選擇性分離低分子量陽離子染料的GO復合膜、制備方法及其應用在權利要求書中公布了:1.一種高選擇性分離低分子量陽離子染料的GO復合膜制備方法,其特征在于,所述制備方法在實施時至少包括如下步驟: SS1.根據目標染料分子的分離需求,自主設計并合成具有空腔結構的冠醚胺作為插層分子,冠醚胺插層分子選自苯并15-冠-5醚胺、氮雜18-冠-6醚胺、14-冠-4醚胺或其衍生物,其結構式中包含冠醚環和氨基基團,合成工藝包括反應條件的優化和純化處理以確保其結構穩定性和功能性; SS2.將鹽酸多巴胺溶于Tris-HCl緩沖液中配制形成聚多巴胺溶液,將聚合物超濾基膜浸入聚多巴胺溶液中,在恒溫振蕩器中進行攪拌振蕩反應,使多巴胺在基膜表面發生自聚合反應形成均勻的聚多巴胺涂層,并使得改性修飾后的基膜表面具有增強的粘附性和減小的孔徑,取出基膜并用去離子水沖洗干凈并干燥備用,聚合物超濾基膜選自聚偏氟乙烯膜、尼龍膜或聚砜膜; SS3.將氧化石墨烯GO分散于去離子水中,超聲處理使其均勻分散,然后加入堿性溶液,在一定溫度下進行部分還原反應,通過調控還原程度實現GO片層間距的精準調節,反應結束冷卻至室溫后用酸溶液調節pH值至弱酸性,得到部分還原的氧化石墨烯溶液備用,所述堿性溶液為氫氧化鈉、氫氧化鉀或氨水溶液,所述酸溶液為鹽酸或醋酸溶液; SS4.將步驟SS1中制備的冠醚胺插層分子加入到步驟SS3制備的部分還原的氧化石墨烯溶液中,在一定溫度下進行攪拌反應,使冠醚胺與部分還原的氧化石墨烯發生交聯反應,確保冠醚胺分子通過化學交聯作用枝接到GO納米片表面,反應后的混合液經超聲處理使復合氧化石墨烯在水中均勻分散,形成均勻分散的復合氧化石墨烯溶液; SS5.將步驟SS3制備的部分還原的氧化石墨烯溶液和步驟SS4制備的復合氧化石墨烯溶液分別進行超聲處理,然后采用真空抽濾或壓力輔助沉積的方式,將部分還原氧化石墨烯溶液和復合氧化石墨烯溶液交替沉積到步驟SS2制備的經聚多巴胺修飾的聚合物超濾基膜表面上,得到具有層狀堆疊結構的多層復合GO膜結構,其中所述復合氧化石墨烯和部分還原氧化石墨烯的負載量比為10-90:90-10,交替沉積的層數為2-10層; SS6.將步驟SS4組裝完成的復合GO膜進行干燥處理,使膜層結構穩定,最終制得具有高選擇性分離低分子量陽離子染料性能的GO復合膜。

          如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人中國科學院工程熱物理研究所,其通訊地址為:100190 北京市海淀區北四環西路11號;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。

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