合肥晶合集成電路股份有限公司王康獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉合肥晶合集成電路股份有限公司申請的專利一種掩模版的圖形校正方法及校正系統獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120428507B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510947122.X，技術領域涉及：G03F1/36；該發明授權一種掩模版的圖形校正方法及校正系統是由王康;羅招龍設計研發完成，并于2025-07-10向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種掩模版的圖形校正方法及校正系統在說明書摘要公布了：本發明提供了一種掩模版的圖形校正方法及校正系統，方法包括以下步驟：設置多個主圖形和多個輔助圖形，收集主圖形和輔助圖形光刻后的晶圓數據；在掩模版上搜尋與輔助圖形具有相同特征尺寸的主圖形，作為參照圖形；獲取參照圖形從掩模版上被轉印到晶圓上的縮放比例，按照縮放比例和掩模版上輔助圖形的尺寸信息，獲取輔助圖形被轉印到晶圓上的虛擬尺寸數據；以及將虛擬尺寸數據和晶圓數據作為光學鄰近校正模型的建模參數，迭代建立光學鄰近校正模型，直到校正誤差小于閾值。本發明提供了一種掩模版的圖形校正方法及校正系統，能夠提升光刻的圖形轉印準確性，從而提升半導體制造良率。
本發明授權一種掩模版的圖形校正方法及校正系統在權利要求書中公布了：1.一種掩模版的圖形校正方法，其特征在于，包括以下步驟： 設置多個主圖形和多個輔助圖形，收集所述主圖形和所述輔助圖形光刻后的晶圓數據； 在所述掩模版上搜尋與所述輔助圖形具有相同特征尺寸的所述主圖形，作為參照圖形； 獲取所述參照圖形從所述掩模版上被轉印到晶圓上的縮放比例，按照所述縮放比例和所述掩模版上所述輔助圖形的尺寸信息，獲取所述輔助圖形被轉印到所述晶圓上的虛擬尺寸數據；以及 將所述虛擬尺寸數據和所述晶圓數據作為光學鄰近校正模型的建模參數，迭代建立所述光學鄰近校正模型，直到校正誤差小于閾值。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人合肥晶合集成電路股份有限公司，其通訊地址為：230012 安徽省合肥市新站區合肥綜合保稅區內西淝河路88號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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