上海恩捷新材料科技有限公司莊志獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉上海恩捷新材料科技有限公司申請的專利一種電解水復合膜的涂層漿料及復合膜的制備方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115772683B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-05發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202211439119.X,技術領域涉及:C25B13/08;該發明授權一種電解水復合膜的涂層漿料及復合膜的制備方法是由莊志;韓文;柯茜;吳惠康;敖蓓;劉淼淼;劉倩倩;程躍設計研發完成,并于2022-11-17向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種電解水復合膜的涂層漿料及復合膜的制備方法在說明書摘要公布了:本發明公開一種用于堿性電解水復合膜的涂層漿料制備方法及其復合膜制備方法,所述涂層漿料制備方法包括提供一用于實施涂層漿料制備的干燥間,其濕度不高于40%;及于所述干燥間進行涂層漿料制備。所述復合膜制備方法包括提供一基膜;制備用于堿性電解水復合膜的涂層漿料;將所述涂層漿料涂覆在所述基膜的表面上以形成濕膜;及將所述濕膜干燥后形成復合膜。通過控制涂層漿料制備環境濕度以提高涂層漿料分散均一性,通過預蒸發時靜置溫度時間控制調整膜表面的孔徑大小和分布形成相對致密的復合膜表層以提高復合膜性能,同時提升生產效率,降低成本。
本發明授權一種電解水復合膜的涂層漿料及復合膜的制備方法在權利要求書中公布了:1.一種用于電解水的復合膜制備方法,其特征在于:包括: 提供一基膜; 提供一用于實施涂層漿料制備的干燥間,所述干燥間的濕度不高于5%; 于所述干燥間進行涂層漿料制備,所述涂層漿料包括粘結劑、溶劑、親水化合物和添加劑,所述粘結劑系選自普通雙酚A型聚砜PSU、聚醚砜PES、聚偏氟乙烯PVDF與聚環氧乙烷PEO之一或其組合,所述溶劑系選自N-乙基-吡咯烷酮NEP、N-甲基吡咯烷酮NMP、二甲基亞砜DMSO與二甲基甲酰胺DMF之一或其組合,所述親水化合物系選自氧化鋯、硫酸鋇、磷酸鋯、氧化鈦之一或其組合,所述添加劑系選自聚乙烯吡咯烷酮PVP、聚乙烯醇PVA、甲基纖維素MC之一或其組合; 于所述干燥間對所述涂層漿料進行攪拌混合,使粘結劑和添加劑溶解于溶劑; 對所述涂層漿料進行脫泡處理; 將所述涂層漿料涂覆在所述基膜的至少一側表面上,以形成一濕膜;及 將所述濕膜干燥后形成一復合膜; 其中所述干燥步驟包括: 預蒸發步驟,對所述濕膜進行預蒸發處理,以使所述濕膜中的溶劑蒸發,所述預蒸發處理在50℃條件下靜置0或2分鐘,或在常溫條件下靜置2分鐘;及 共沉淀步驟,將所述濕膜放在第一置換溶劑中10至25分鐘,以使所述濕膜中的所述溶劑被所述第一置換溶劑置換而移出于所述濕膜,由于所述粘結劑及親水化合物不溶于所述第一置換溶劑,故所述粘結劑及親水化合物會從所述第一置換溶劑中沉淀出來,并將所述濕膜取出于所述第一置換溶劑并在空氣中靜置4至24小時,以除去所述第一置換溶劑和所述溶劑,將所述濕膜放在第二置換溶劑中,以使所述濕膜中的所述添加劑被所述第二置換溶劑置換而移出于所述濕膜。
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