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龍圖騰網(wǎng)獲悉楚赟精工科技(上海)有限公司申請(qǐng)的專利一種反射率光學(xué)測(cè)量裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN116008234B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-05發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202211625238.4，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G01N21/55；該發(fā)明授權(quán)一種反射率光學(xué)測(cè)量裝置是由馬法君;吳怡;劉明軍;劉雷;鄭冬設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2022-12-16向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種反射率光學(xué)測(cè)量裝置在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開了一種反射率光學(xué)測(cè)量裝置，其設(shè)置在反應(yīng)腔室外部，包括：光發(fā)射模塊和光探測(cè)模塊；光發(fā)射模塊用于發(fā)射入射探測(cè)光，光發(fā)射模塊包括射出入射探測(cè)光的發(fā)光面，入射探測(cè)光為非平行光，入射探測(cè)光中的至少部分通過反應(yīng)腔室上的觀察口投射至反應(yīng)腔室內(nèi)待測(cè)對(duì)象的被測(cè)面上，并由被測(cè)面反射；光探測(cè)模塊用于接收由被測(cè)面反射且通過觀察口射出的出射探測(cè)光。本發(fā)明通過采用具有一發(fā)光面的光發(fā)射模塊發(fā)射非平行光作為入射探測(cè)光，可以提供反射率的有效測(cè)量，因此能使光路調(diào)整變得較為簡單，且測(cè)量裝置可不受安裝位置的過多限制，從而達(dá)到簡化光路，增加可靠性的目的，可適用于對(duì)產(chǎn)生較大翹曲的外延片的測(cè)量，拓寬了應(yīng)用場(chǎng)景。

本發(fā)明授權(quán)一種反射率光學(xué)測(cè)量裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種反射率光學(xué)測(cè)量裝置，其特征在于，其設(shè)置在反應(yīng)腔室外部，包括：光發(fā)射模塊和光探測(cè)模塊； 所述光發(fā)射模塊用于發(fā)射入射探測(cè)光，所述光發(fā)射模塊包括射出所述入射探測(cè)光的發(fā)光面，所述入射探測(cè)光為非平行光，所述入射探測(cè)光中的至少部分通過所述反應(yīng)腔室上的觀察口投射至所述反應(yīng)腔室內(nèi)待測(cè)對(duì)象的被測(cè)面上，并由所述被測(cè)面反射； 所述光探測(cè)模塊用于接收由所述被測(cè)面反射且通過所述觀察口射出的出射探測(cè)光； 所述發(fā)光面上每一處發(fā)射的所述入射探測(cè)光在所述發(fā)光面的法向的立體角內(nèi)的強(qiáng)度均勻分布且各處在所述立體角內(nèi)的強(qiáng)度分布一致；定義所述立體角在任意方向上張開的角度的一半為β，所述β大于等于所述觀察口的中心在所述待測(cè)對(duì)象所在平面上的投影與所述觀察口之間形成的錐體的半頂角α； 所述發(fā)光面的尺寸A與所述觀察口的尺寸B之間滿足： AB≥Hh 其中，H為所述發(fā)光面到所述待測(cè)對(duì)象所在平面的距離，h為所述觀察口到所述待測(cè)對(duì)象所在平面的距離。

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