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龍圖騰網(wǎng)獲悉廣德特旺光電材料有限公司申請(qǐng)的專利一種ITO濺射靶材的制備方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN118460974B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-05發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202410606823.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C23C14/34；該發(fā)明授權(quán)一種ITO濺射靶材的制備方法是由侯閩渤設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2024-05-16向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種ITO濺射靶材的制備方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開了一種ITO濺射靶材的制備方法，將不同粒徑的氧化銦粉體、氧化錫粉體和納米氧化錫制成漿料或者溶膠后，經(jīng)過球磨處理，得到ITO漿料，再澆注到模具中成型，在常壓氧氣氣氛下高溫?zé)Y(jié)得到ITO濺射靶材。本發(fā)明制備得到的ITO濺射靶材均勻性好、密度高，電阻率低，能夠保證顯示屏的均勻性和一致性，而且該方法具有成本低、生產(chǎn)效率高的優(yōu)點(diǎn)。

本發(fā)明授權(quán)一種ITO濺射靶材的制備方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種ITO濺射靶材的制備方法，其特征在于，包括以下步驟： S1、將D50為1.8～2.0μm的氧化銦粉體加入水中，攪拌分散均勻，然后加入乙酸，攪拌10～20min，然后加入氨水至pH為6～8，再加入分散劑，攪拌分散均勻，得到氧化銦漿料；氧化銦粉體、水、乙酸和分散劑的質(zhì)量比為40～50：50～60：1～5：2～4； S2、將D50為1.4～1.6μm的氧化錫粉體加入水中，攪拌分散均勻，然后加入乙酸，攪拌10～20min，然后加入氨水至pH為6～8，再加入分散劑，得到氧化錫漿料；氧化錫粉體、水、乙酸和分散劑的質(zhì)量比為40～50：50～60：1～5：2～4； S3、將納米氧化錫和分散劑加入水中，超聲分散均勻，得到納米氧化錫溶膠；所述納米氧化錫的粒徑為30～60nm； S4、將所述氧化銦漿料與氧化錫漿料、納米氧化錫溶膠混合后進(jìn)行球磨，得到ITO漿料，所述氧化銦粉體、氧化錫粉體、納米氧化錫的質(zhì)量比為90：9.5～9.9：0.1～0.5；然后向所述ITO漿料中加入粘結(jié)劑混合均勻，澆注到模具中成型后，先在惰性氣氛下高溫脫脂，然后在常壓氧氣氣氛下高溫?zé)Y(jié)，得到ITO濺射靶材；所述高溫?zé)Y(jié)的溫度為1500～1600℃，時(shí)間為4～10h。

如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人廣德特旺光電材料有限公司，其通訊地址為：242000 安徽省宣城市廣德市經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)東區(qū)廣安路11號(hào)；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。