南京綠芯集成電路有限公司林昌偉獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉南京綠芯集成電路有限公司申請的專利功率MOS管組件獲國家實用新型專利權,本實用新型專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN223310188U 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-05發布的實用新型授權公告中獲悉:該實用新型的專利申請號/專利號為:202421687907.5,技術領域涉及:H10D30/60;該實用新型功率MOS管組件是由林昌偉設計研發完成,并于2024-07-16向國家知識產權局提交的專利申請。
本功率MOS管組件在說明書摘要公布了:本實用新型公開一種功率MOS管組件,包括:N型硅襯底和位于N型硅襯底上表面的N型外延層,所述N型外延層內間隔地設置有至少2個單胞單元,此單胞單元進一步包括P型阱區和溝槽,所述P型阱區位于所述N型外延層的上部;重摻雜N型源極區遠離溝槽一端周邊和下方包覆有一中摻雜N型接觸部,此中摻雜N型接觸部上端與P型阱區上端齊平且與一第二金屬層接觸,所述中摻雜N型接觸部下方為P型阱區的區域;相鄰單胞單元之間的P型阱區具有一P型離子柱,此P型離子柱上端與第二絕緣介質層接觸,下端延伸至N型外延層。本實用新型功率MOS管組件提高了高頻開關的響應速度,降低了在高頻狀態器件使用的損耗,從而擴展了MOS晶體管組件的應用范圍。
本實用新型功率MOS管組件在權利要求書中公布了:1.一種功率MOS管組件,其特征在于:包括:N型硅襯底(1)和位于N型硅襯底(1)上表面的N型外延層(2),所述N型硅襯底(1)下表面具有一重摻雜N型漏極區(11),所述重摻雜N型漏極區(11)與N型硅襯底(1)相背的表面具有一第一金屬層(3); 所述N型外延層(2)內間隔地設置有至少2個單胞單元(13),此單胞單元(13)進一步包括P型阱區(4)和溝槽(5),所述P型阱區(4)位于所述N型外延層(2)的上部,位于P型阱區(4)內的溝槽(5)從P型阱區(4)延伸至N型外延層(2)內,所述P型阱區(4)上部內且位于溝槽(5)的周邊具有重摻雜N型源極區(8),所述溝槽(5)內具有一柵極部(6),此柵極部(6)與溝槽(5)內壁之間具有一絕緣層(7); 所述重摻雜N型源極區(8)遠離溝槽(5)一端周邊和下方包覆有一中摻雜N型接觸部(12),此中摻雜N型接觸部(12)上端與P型阱區(4)上端齊平且與一第二金屬層(10)接觸,所述中摻雜N型接觸部(12)下方為P型阱區(4)的區域; 相鄰單胞單元(13)之間的P型阱區(4)具有一P型離子柱(14),此P型離子柱(14)上端與第二絕緣介質層(92)接觸,下端延伸至N型外延層(2),一第一絕緣介質層(91)位于溝槽(5)上方并覆蓋于柵極部(6)上,所述第二金屬層(10)位于所述絕緣介質層(9)、重摻雜N型源極區(8)上。
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