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龍圖騰網獲悉季華實驗室申請的專利一種厚金剛石膜高速制備方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120231013B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-02發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510710192.3，技術領域涉及：C23C16/27；該發明授權一種厚金剛石膜高速制備方法是由趙渝寧;吳進;郭可升;陳怡如;何斌設計研發完成，并于2025-05-29向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種厚金剛石膜高速制備方法在說明書摘要公布了：本申請屬于金剛石制備技術領域，公開了一種厚金剛石膜高速制備方法，該方法包括：利用無水乙醇將金剛石顆粒均勻鋪滿在襯底上，將襯底放置在MPCVD系統內部的樣品臺上，通入氫氣并將MPCVD系統內部緩慢升溫至預設的清洗溫度以對襯底的表面進行等離子體清洗，基于生長氫氣流量、甲烷氣體流量、生長功率、生長溫度和生長氣壓，通過分段生長法，促進襯底的表面上各金剛石顆粒的間隙間生長納米級金剛石以連接各金剛石顆粒，得到致密且均勻的粗糙厚金剛石膜，對粗糙厚金剛石膜進行拋光，得到表面光滑的厚金剛石膜；通過分段生長法，利用氫氣和甲烷氣體，在鋪滿了一層金剛石顆粒的襯底上生長得到厚金剛石膜，提高了厚金剛石膜高速制備的效率。

本發明授權一種厚金剛石膜高速制備方法在權利要求書中公布了：1.一種厚金剛石膜高速制備方法，用于快速制備厚金剛石膜，其特征在于，包括步驟： 利用無水乙醇將金剛石顆粒均勻鋪滿在襯底上； 將鋪滿金剛石顆粒的襯底放置在MPCVD系統內部的樣品臺上，通入氫氣并將所述MPCVD系統內部緩慢升溫至預設的清洗溫度以對所述鋪滿金剛石顆粒的襯底的表面進行等離子體清洗； 基于預設的生長氫氣流量、預設的甲烷氣體流量、預設的生長功率、預設的生長溫度和預設的生長氣壓，通過分段生長法，促進所述鋪滿金剛石顆粒的襯底的表面上各所述金剛石顆粒的間隙間生長納米級金剛石，以通過所述納米級金剛石連接各所述金剛石顆粒，得到致密且均勻的粗糙厚金剛石膜； 對所述粗糙厚金剛石膜進行拋光，得到表面光滑的厚金剛石膜； 所述預設的甲烷氣體流量包括預設的第一甲烷氣體流量和預設的第二甲烷氣體流量；所述預設的生長功率包括預設的第一生長功率、預設的第二生長功率和預設的第三生長功率；所述預設的生長溫度包括預設的第一生長溫度、預設的第二生長溫度和預設的第三生長溫度；所述預設的生長氣壓包括預設的第一生長氣壓、預設的第二生長氣壓和預設的第三生長氣壓； 基于預設的生長氫氣流量、預設的甲烷氣體流量、預設的生長功率、預設的生長溫度和預設的生長氣壓，通過分段生長法，促進所述鋪滿金剛石顆粒的襯底的表面上各所述金剛石顆粒的間隙間生長納米級金剛石，以通過所述納米級金剛石連接各所述金剛石顆粒，得到致密且均勻的粗糙厚金剛石膜，包括： 向所述MPCVD系統內部通入所述預設的第一甲烷氣體流量的甲烷氣體，并基于所述預設的第一生長功率、所述預設的第一生長溫度和所述預設的第一生長氣壓，結合預設的第一生長時間，進行初步促進生長操作，使所述鋪滿金剛石顆粒的襯底的表面上各所述金剛石顆粒的間隙之間開始生長納米級金剛石； 調節氫氣的流量為預設的生長氫氣流量，調節甲烷氣體的流量為所述預設的第二甲烷氣體流量，調節所述MPCVD系統內部的功率為所述預設的第二生長功率，調節所述MPCVD系統內部的溫度為所述預設的第二生長溫度，以及調節所述MPCVD系統內部的氣壓為所述預設的第二生長氣壓，以在預設的第二生長時間對所述襯底進行一階段生長，使各所述金剛石顆粒的間隙之間的納米級金剛石逐漸變大并在變大過程逐漸與各所述金剛石顆粒接觸并連接； 在所述預設的第二生長時間后，保持氫氣和甲烷氣體的流量不變，調節所述MPCVD系統內部的功率為所述預設的第三生長功率，調節所述MPCVD系統內部的溫度為所述預設的第三生長溫度，以及調節所述MPCVD系統內部的氣壓為所述預設的第三生長氣壓，以在所述預設的第二生長時間對所述襯底進行二階段生長，使各所述金剛石顆粒的間隙之間的納米級金剛石與各所述金剛石顆粒緊密連接并共同生長； 完成二階段生長后，緩慢將所述MPCVD系統內部的功率調節為零，同時，緩慢將所述MPCVD系統內部的溫度和氣壓分別降低至室溫和室壓，并在降溫過程中，緩慢降低氫氣和甲烷氣體的流量為零，等到所述鋪滿金剛石顆粒的襯底調節到室溫后，在所述鋪滿金剛石顆粒的襯底的表面上制備得到致密且均勻的粗糙厚金剛石膜。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人季華實驗室，其通訊地址為：528200 廣東省佛山市南海區桂城街道環島南路28號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。