朗姆研究公司道格拉斯·沃爾特·阿格紐獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉朗姆研究公司申請的專利原子層沉積工藝中的氧化轉化獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112335019B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201980044136.3，技術領域涉及：H01L21/02；該發明授權原子層沉積工藝中的氧化轉化是由道格拉斯·沃爾特·阿格紐;約瑟夫·R·阿貝爾;巴特·簡·范施拉芬迪克設計研發完成，并于2019-06-27向國家知識產權局提交的專利申請。
本原子層沉積工藝中的氧化轉化在說明書摘要公布了：描述了一種用于處理襯底的方法。將氣相的第一反應物引入其中具有該襯底的反應室中。允許該第一反應物被吸附到該襯底的表面上。在該第一反應物的流停止之后，從該反應室中清掃該第一反應物的未反應部分。在該第一反應物被吸附到該襯底的表面上的同時，將該第二反應物以氣相引入該反應室。該第二反應物包括比例為1∶1∶1的二氫H2、含氮反應物和含氧反應物。基于該第二反應物點燃等離子體。該襯底的表面暴露于該等離子體。該等離子體熄滅。從該反應室中清掃氣體。
本發明授權原子層沉積工藝中的氧化轉化在權利要求書中公布了：1.一種用于在原子層沉積過程中減少氧化轉化過程中雜質的處理襯底的方法，所述方法包括： 將第一反應物氣體輸送到其中具有所述襯底的反應室中，所述第一反應物氣體的反應部分被吸附到所述襯底的表面上； 從所述反應室中清掃所述第一反應物氣體的未反應部分，所述第一反應物氣體的所述未反應部分不被吸附到所述襯底的所述表面上； 將第二反應物氣體輸送到所述反應室中，所述第二反應物氣體包括氫氣H2氣體、氮基反應物氣體和氧基反應物氣體； 在所述反應室內用所述第二反應物氣體點燃等離子體，所述等離子體暴露于所述襯底的所述表面； 熄滅所述等離子體；以及 在熄滅所述等離子體之后清掃所述反應室。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人朗姆研究公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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