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龍圖騰網(wǎng)獲悉臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司申請(qǐng)的專(zhuān)利散熱結(jié)構(gòu)及制造散熱結(jié)構(gòu)的方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN110660759B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-29發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?專(zhuān)利號(hào)為：201910580121.0，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L23/367；該發(fā)明授權(quán)散熱結(jié)構(gòu)及制造散熱結(jié)構(gòu)的方法是由黃博祥;劉欽洲;錢(qián)清河;張豐愿;李惠宇設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2019-06-28向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專(zhuān)利申請(qǐng)。

本散熱結(jié)構(gòu)及制造散熱結(jié)構(gòu)的方法在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本揭露描述了可以在三維系統(tǒng)整合晶片結(jié)構(gòu)的功能區(qū)域或非功能區(qū)域中形成的散熱結(jié)構(gòu)。在一些實(shí)施例中，散熱結(jié)構(gòu)將記憶體晶粒或晶片的平均操作溫度維持為低于約90℃。例如，散熱結(jié)構(gòu)包括具有兩或多個(gè)晶片層的堆疊，其中兩或多個(gè)的晶片層的堆疊的一晶片層包括中心部分和邊緣部分，中心部分包括一或多個(gè)晶片，邊緣部分圍繞中心部分。邊緣部分包括熱界面材料環(huán)及導(dǎo)熱結(jié)構(gòu)。熱界面材料環(huán)包括具有第一導(dǎo)熱率的第一材料。導(dǎo)熱結(jié)構(gòu)包括具有高于第一導(dǎo)熱率的第二導(dǎo)熱率的第二材料。此結(jié)構(gòu)還包括設(shè)置在堆疊的頂部晶片層上方的熱界面材料層，以及在熱界面材料層上方的散熱器。

本發(fā)明授權(quán)散熱結(jié)構(gòu)及制造散熱結(jié)構(gòu)的方法在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種散熱結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括： 多個(gè)晶片層的一堆疊，其中該多個(gè)晶片層的該堆疊的一晶片層包括： 一中心部分，包括一或多個(gè)晶片；以及 一邊緣部分，圍繞該中心部分并且包括： 一熱界面材料環(huán)，包括具有一第一導(dǎo)熱率的一第一材料；以及 一第一導(dǎo)熱結(jié)構(gòu)，包括具有高于該第一導(dǎo)熱率的一第二導(dǎo)熱率的一第二材料，其中該第一導(dǎo)熱結(jié)構(gòu)垂直延伸穿過(guò)該晶片層，并實(shí)體接觸該熱界面材料環(huán)，且其中該晶片層的該邊緣部分進(jìn)一步包括： 一虛擬區(qū)域，位于該晶片層的該邊緣部分，其中該虛擬區(qū)域包括一介電材料，該介電材料設(shè)置在該熱界面材料環(huán)上并與該熱界面材料環(huán)實(shí)體接觸，其中該介電材料具有一第三導(dǎo)熱率低于該第一導(dǎo)熱率；以及 一第二導(dǎo)熱結(jié)構(gòu)，橫向延伸穿過(guò)該虛擬區(qū)域的該介電材料； 一熱界面材料層，設(shè)置在該堆疊的一頂部晶片層上；以及 一散熱器，位于該熱界面材料層上方，其中該第一導(dǎo)熱結(jié)構(gòu)、該第二導(dǎo)熱結(jié)構(gòu)和該熱界面材料環(huán)配置以將該堆疊中產(chǎn)生的熱量經(jīng)由該晶片層的該邊緣部分朝向該散熱器引導(dǎo)。

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