旺宏電子股份有限公司洪敏峰獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉旺宏電子股份有限公司申請的專利三維AND快閃存儲器元件及其制造方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115835646B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202111155697.6,技術領域涉及:H10B43/35;該發明授權三維AND快閃存儲器元件及其制造方法是由洪敏峰;曾碧山設計研發完成,并于2021-09-29向國家知識產權局提交的專利申請。
本三維AND快閃存儲器元件及其制造方法在說明書摘要公布了:本公開提供一種三維AND快閃存儲器元件,包括:柵極疊層結構,位于介電基底上,其中所述柵極疊層結構包括彼此交替疊層的多個柵極層與多個絕緣層;多個通道柱,穿過所述柵極疊層結構;多個第一導體柱與多個第二導體柱,位于所述多個通道柱內,且與所述多個通道柱電性連接;多個電荷儲存結構,位于所述多個柵極層與所述通道柱之間;以及多個隔離墻,埋在所述多個柵極層中,所述多個隔離墻包覆所述多個第二導體柱外側壁的所述多個電荷儲存結構。
本發明授權三維AND快閃存儲器元件及其制造方法在權利要求書中公布了:1.一種三維AND快閃存儲器元件,包括: 柵極疊層結構,位于介電基底上,其中所述柵極疊層結構包括彼此交替疊層的多個柵極層與多個絕緣層; 多個通道柱,延伸穿過所述柵極疊層結構; 多個第一導體柱與多個第二導體柱,位于所述多個通道柱內,且與所述多個通道柱電性連接; 多個電荷儲存結構,位于所述多個柵極層與所述通道柱之間;以及 多個隔離墻,埋在所述多個柵極層中,所述多個隔離墻包覆所述多個第二導體柱外側壁的所述多個電荷儲存結構。
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