長鑫存儲技術有限公司蘇明哲獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉長鑫存儲技術有限公司申請的專利半導體清洗裝置及方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116092967B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111313846.7，技術領域涉及：H01L21/67；該發明授權半導體清洗裝置及方法是由蘇明哲設計研發完成，并于2021-11-08向國家知識產權局提交的專利申請。
本半導體清洗裝置及方法在說明書摘要公布了：一種半導體清洗裝置及方法，包括：機臺本體設置有清洗腔室，清洗腔室中夾持有晶圓，晶圓隨著機臺本體中的旋轉底座做旋轉運動；機械手臂通過固定在機臺本體上的軸進行繞軸旋轉；噴嘴組包括第二噴嘴、第四噴嘴、第三噴嘴和第一噴嘴依次排列，噴嘴用于噴灑藥液以清洗晶圓；空氣噴入裝置與清洗腔室連接，用于產生壓縮干燥空氣以壓低噴嘴噴出的藥液在晶圓上方形成的反濺面。本公開提供的裝置通過改變噴嘴組的高度、噴嘴在機械手臂運動過程中的工作位置以及加入空氣噴入裝置，降低了在加工過程中噴嘴噴出的藥液在晶圓表面上形成的反濺面的高度，降低了其它噴嘴形成懸滴的概率，同時減少了由于噴嘴懸滴滴落在晶圓表面產生的水痕現象，提高了產品的良率。
本發明授權半導體清洗裝置及方法在權利要求書中公布了：1.一種半導體清洗裝置，其特征在于，包括： 機臺本體，所述機臺本體設置有清洗腔室，所述清洗腔室中夾持有晶圓，所述晶圓隨著所述機臺本體中的旋轉底座做旋轉運動； 機械手臂，所述機械手臂通過固定在所述機臺本體上的軸進行繞軸旋轉； 噴嘴組，所述噴嘴組設置在所述機械手臂的一端，所述噴嘴組包括第二噴嘴、第四噴嘴、第三噴嘴和第一噴嘴依次排列，所述第三噴嘴與所述第四噴嘴的長度小于所述第二噴嘴的長度，所述噴嘴用于噴灑藥液以清洗所述晶圓； 空氣噴入裝置，所述空氣噴入裝置與所述清洗腔室連接，所述空氣噴入裝置用于產生壓縮干燥空氣以壓低所述噴嘴噴出的藥液在所述晶圓上方形成的反濺面。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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