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龍圖騰網(wǎng)獲悉東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社申請(qǐng)的專利基片搬運(yùn)裝置、基片處理系統(tǒng)和基片處理方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN114664692B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-29發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202111524734.6，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/67；該發(fā)明授權(quán)基片搬運(yùn)裝置、基片處理系統(tǒng)和基片處理方法是由阪上博充;兒玉俊昭設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-12-14向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本基片搬運(yùn)裝置、基片處理系統(tǒng)和基片處理方法在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本發(fā)明提供基片搬運(yùn)裝置、基片處理系統(tǒng)和基片處理方法，在減壓氣氛下搬運(yùn)基片的基片搬運(yùn)裝置中，能夠始終監(jiān)視基片的位置。本發(fā)明的基片搬運(yùn)裝置在減壓氣氛下對(duì)基片處理裝置搬運(yùn)基片，包括：基片保持部，其用于保持所述基片；和基片測(cè)量部，其被設(shè)置于所述基片保持部，對(duì)所述基片相對(duì)于該基片保持部的位置進(jìn)行測(cè)量。

本發(fā)明授權(quán)基片搬運(yùn)裝置、基片處理系統(tǒng)和基片處理方法在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種使用基片處理系統(tǒng)對(duì)基片進(jìn)行處理的基片處理方法， 所述基片處理系統(tǒng)包括： 在減壓氣氛下對(duì)所述基片進(jìn)行處理的基片處理裝置；和 在減壓氣氛下對(duì)所述基片處理裝置搬運(yùn)所述基片的基片搬運(yùn)裝置， 在所述基片處理方法中，在利用所述基片搬運(yùn)裝置搬運(yùn)所述基片時(shí)，利用基片保持部保持所述基片，使用設(shè)置于所述基片保持部的基片測(cè)量部測(cè)量所述基片相對(duì)于該基片保持部的位置， 在利用所述基片保持部接收所述基片時(shí)，在所述基片保持部與所述基片隔開(kāi)間隔的狀態(tài)下，一邊利用所述基片測(cè)量部測(cè)量所述基片的位置，一邊使所述基片保持部在水平方向和鉛垂方向上移動(dòng)來(lái)使該基片保持部與所述基片接觸， 基于所述基片保持部的水平方向速度和鉛垂方向速度，計(jì)算所述基片保持部的初始位置與接觸位置之間的鉛垂方向距離， 對(duì)計(jì)算出的所述鉛垂方向距離與預(yù)先求出的正常時(shí)的鉛垂方向距離進(jìn)行比較，檢測(cè)所述基片保持部的位移。

如需購(gòu)買(mǎi)、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。