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龍圖騰網(wǎng)獲悉鄭州輕工業(yè)大學(xué)申請(qǐng)的專利一種利用面內(nèi)空間自旋分裂位移測(cè)量微小旋光角度的方法和應(yīng)用獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN115855830B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-29發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202211669578.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G01N21/21；該發(fā)明授權(quán)一種利用面內(nèi)空間自旋分裂位移測(cè)量微小旋光角度的方法和應(yīng)用是由秦自瑞;姜利英;衡勝嚴(yán);張培;任林嬌;齊汝賓;龐偉偉;周海洋設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2022-12-24向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種利用面內(nèi)空間自旋分裂位移測(cè)量微小旋光角度的方法和應(yīng)用在說明書摘要公布了：本發(fā)明屬于光學(xué)領(lǐng)域，涉及一種手性物質(zhì)旋光度的測(cè)量方法，特別是指一種利用面內(nèi)空間自旋分裂位移測(cè)量微小旋光角度的方法和應(yīng)用。本申請(qǐng)根據(jù)面內(nèi)空間自旋分裂位移與旋光角度的理論關(guān)系模型，建立旋光角度與面內(nèi)空間自旋分裂位移變化量的理論對(duì)應(yīng)關(guān)系數(shù)據(jù)庫(kù)；然后測(cè)量入射光束在未裝物品的樣品池的界面上發(fā)生反射時(shí)，反射光束所產(chǎn)生的面內(nèi)空間自旋分裂位移；再將被測(cè)物裝入樣品池中，并測(cè)量此時(shí)反射光束所產(chǎn)生的面內(nèi)空間自旋分裂位移；計(jì)算旋光角度所引起的面內(nèi)空間自旋分裂位移變化量；再與理論對(duì)應(yīng)關(guān)系數(shù)據(jù)庫(kù)進(jìn)行比對(duì)計(jì)算，即得目標(biāo)值。本發(fā)明利用面內(nèi)空間自旋分裂位移對(duì)旋光角度的優(yōu)異敏感特性，可實(shí)現(xiàn)微小旋光角度的高分辨力測(cè)量。

本發(fā)明授權(quán)一種利用面內(nèi)空間自旋分裂位移測(cè)量微小旋光角度的方法和應(yīng)用在權(quán)利要求書中公布了：1.一種利用面內(nèi)空間自旋分裂位移測(cè)量微小旋光角度的方法，其特征在于，包括以下步驟： 1根據(jù)面內(nèi)空間自旋分裂位移與旋光角度的理論關(guān)系模型，建立入射光束以任意初始偏振角透過被測(cè)物后，并以任意入射角在某反射界面發(fā)生反射時(shí)，旋光角度與其所引起的面內(nèi)空間自旋分裂位移變化量的理論對(duì)應(yīng)關(guān)系數(shù)據(jù)庫(kù)； 2測(cè)量入射光束以某初始偏振角透過未裝入被測(cè)物的樣品池，并以某入射角在某界面發(fā)生反射時(shí)，反射光束所產(chǎn)生的面內(nèi)空間自旋分裂位移； 3在保持步驟2中參數(shù)條件不變的情況下，將被測(cè)物裝入樣品池中，并測(cè)量此時(shí)反射光束所產(chǎn)生的面內(nèi)空間自旋分裂位移； 4將步驟3和步驟2所獲得的面內(nèi)空間自旋分裂位移進(jìn)行相減，得到旋光角度所引起的面內(nèi)空間自旋分裂位移變化量； 5將步驟4所得的面內(nèi)空間自旋分裂位移變化量，與步驟1所建立的理論對(duì)應(yīng)關(guān)系數(shù)據(jù)庫(kù)進(jìn)行比對(duì)計(jì)算，即可得到被測(cè)物所引起的微小旋光角度的值；所述步驟1中面內(nèi)空間自旋分裂位移與旋光角度的理論關(guān)系模型為： 式①中，這里，α示旋光角度，即表示入射光束通過被測(cè)物后，其偏振方向所旋轉(zhuǎn)變化的角度；γi表示入射光束通過被測(cè)物前的偏振角；σ＝+和σ＝-分別表示光束的左旋分量和右旋分量；θ表示入射光的入射角度；rp和rs分別表示光束的p光分量和s光分量的反射系數(shù)； A∈{p,s}，Re表示取復(fù)數(shù)的實(shí)部，Im表示取復(fù)數(shù)的虛部；w0表示入射光束的束腰；表示在入射光在傳播介質(zhì)中的波數(shù)，ε代表傳播介質(zhì)的相對(duì)介電常數(shù)，λ為入射光在傳播介質(zhì)中的波長(zhǎng)。

如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人鄭州輕工業(yè)大學(xué)，其通訊地址為：450000 河南省鄭州市高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)科學(xué)大道136號(hào)；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。