南京工業大學葛丹華獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉南京工業大學申請的專利一種去除四環素的g-C3N4基納米復合材料及其制備方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN117101696B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202310915507.9,技術領域涉及:B01J27/24;該發明授權一種去除四環素的g-C3N4基納米復合材料及其制備方法是由葛丹華;陳曉君;王焱;李浩然;王婉竹設計研發完成,并于2023-07-24向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種去除四環素的g-C3N4基納米復合材料及其制備方法在說明書摘要公布了:本發明提供了一種去除四環素的g?C3N4基納米復合材料及其制備方法和應用,所述符合材料由如下方法制得:將硫源、銅源和g?C3N4于溶劑中、60~70℃下反應1~6h,之后分離得到g?C3N4基前驅體;干燥后,在空氣氛圍下于350~500℃恒溫灼燒,即得。本發明的材料,可利用綠色分子氧作為氧化劑,通過高級氧化過程和吸附作用相結合,具有優異的催化性能和吸附效率、較高的選擇性和穩定性。使用該復合材料,廢水無需經過稀釋處理可直接用于去除四環素。本發明制備簡單、方便快捷并采用比較廉價、易得到的原料來合成,成本較低,樣品的重現性比較好,適合大規模生產,在水體環境治理領域具有一定的開發潛力和應用前景。
本發明授權一種去除四環素的g-C3N4基納米復合材料及其制備方法在權利要求書中公布了:1.一種去除四環素的g-C3N4基納米復合材料的制備方法,其特征在于,包括以下步驟: (1)將硫源、銅源和g-C3N4于溶劑中、60~70℃下反應1~6h,之后分離得到g-C3N4基前驅體;所述硫源為硫脲或硫代乙酰胺; (2)將所述g-C3N4基前驅體干燥后,在空氣氛圍下于350~500℃恒溫灼燒,即得所述g-C3N4基納米復合材料。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人南京工業大學,其通訊地址為:211816 江蘇省南京市浦口區浦珠南路30號;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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