東北大學秦高梧獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉東北大學申請的專利一種聚醚醚酮薄膜繞包Cu電磁線及其制備方法和應用獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN117976347B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202410132200.6，技術領域涉及：H01F5/02；該發明授權一種聚醚醚酮薄膜繞包Cu電磁線及其制備方法和應用是由秦高梧;任玉平;李松;秦正朋設計研發完成，并于2024-01-31向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種聚醚醚酮薄膜繞包Cu電磁線及其制備方法和應用在說明書摘要公布了：本發明提供了一種聚醚醚酮薄膜繞包Cu電磁線及其制備方法和應用，屬于電磁線技術領域。本發明首先在銅電磁線表面磁控濺射過渡層并控制過渡層的種類，采用高活性的Al、Ti、Cr或其合金，既能夠與聚醚醚酮薄膜中的官能團形成化學鍵，又能夠與Cu層形成冶金結合，從而提高聚醚醚酮和Cu之間的結合力，然后包覆聚醚醚酮薄膜，聚醚醚酮具有較高的穩定性、力學性能、絕緣性和耐高壓擊穿及抗電暈能力，且厚度較薄，最后進行熱處理，使得聚醚醚酮薄膜厚度均勻、致密，從而使制備的聚醚醚酮薄膜繞包Cu電磁線具有優異的性能，制備方法簡單，綠色環保。
本發明授權一種聚醚醚酮薄膜繞包Cu電磁線及其制備方法和應用在權利要求書中公布了：1.一種聚醚醚酮薄膜繞包Cu電磁線的制備方法，包括以下步驟： 1在銅電磁線表面進行磁控濺射過渡層，得到過渡層包覆銅電磁線；所述過渡層包括Al層、Ti層、Cr層、Al-Ti合金層、Al-Cr合金層、Ti-Cr合金層或Al-Ti-Cr合金層；所述過渡層的厚度為2～100nm； 2在所述步驟1得到的過渡層包覆銅電磁線表面包覆聚醚醚酮薄膜，得到聚醚醚酮包覆銅電磁線；所述聚醚醚酮薄膜的厚度為2～20μm； 3將所述步驟2得到的聚醚醚酮包覆銅電磁線進行熱處理后冷卻，得到聚醚醚酮薄膜繞包Cu電磁線； 所述步驟1中磁控濺射的背底真空度＜1×10-3Pa，磁控濺射的Ar壓力為0.1～2Pa，磁控濺射速率為5～100nmmin；所述步驟3中熱處理的溫度為350～420℃，熱處理的時間為1～10min。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人東北大學，其通訊地址為：110000 遼寧省沈陽市和平區文化路3號巷11號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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