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龍圖騰網(wǎng)獲悉寧夏大學(xué)申請的專利增強(qiáng)CoFe基磁性多層膜垂直磁各向異性的方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN118711985B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-29發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202410884409.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01F41/18；該發(fā)明授權(quán)增強(qiáng)CoFe基磁性多層膜垂直磁各向異性的方法是由鄭富;朱澤鐿;馬麗;王曉夢;曹志杰;龍河海;萬雅帆;王雪設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2024-07-03向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本增強(qiáng)CoFe基磁性多層膜垂直磁各向異性的方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開增強(qiáng)CoFe基磁性多層膜垂直磁各向異性的方法，具體步驟如下：步驟1.制備MgO層：由射頻磁控濺射法直接在襯底上沉積；步驟2.制備CoFe基磁性層：由射頻磁控濺射法在MgO層上沉積CoFe基磁性層；步驟3.制備Mo隔離層：由直流磁控濺射法在CoFe基磁性層上沉積Mo隔離層；步驟4.制備重金屬層：由直流磁控濺射法在Mo隔離層上沉積重金屬層；步驟5.退火：在重金屬層沉積結(jié)束后，將樣品進(jìn)行退火處理。該方法制備流程簡單，制備難度較小，對CoFe基磁性多層膜的垂直磁各向異性增強(qiáng)有效可靠。

本發(fā)明授權(quán)增強(qiáng)CoFe基磁性多層膜垂直磁各向異性的方法在權(quán)利要求書中公布了：1.增強(qiáng)CoFe基磁性多層膜垂直磁各向異性的方法，其特征在于，具體步驟如下： 步驟1.制備MgO層：由射頻磁控濺射法直接在襯底上沉積； 步驟2.制備CoFe基磁性層：由射頻磁控濺射法在MgO層上沉積CoFe基磁性層； 步驟3.制備Mo隔離層：由直流磁控濺射法在CoFe基磁性層上沉積Mo隔離層； 步驟4.制備重金屬層：由直流磁控濺射法在Mo隔離層上沉積重金屬層；其中，重金屬層為W層； 步驟5.退火：在重金屬層（5）沉積結(jié)束后，將樣品進(jìn)行退火處理； 步驟1中襯底為Si基片； 濺射氣氛為氬氣，氬氣流量為18sccm-36sccm； 磁控濺射系統(tǒng)基板旋轉(zhuǎn)速度為5rpm-20rpm； 步驟4中，沉積的重金屬層所用材質(zhì)為表面自由能高于2939mJm2的非鐵磁重金屬； 步驟5中，退火溫度為400℃-500℃，退火時間為1h； MgO層的厚度為：2nm；CoFe基磁性層的厚度為：1nm-1.7nm；Mo隔離層的厚度為：1nm-4nm；重金屬層的厚度為：2nm-4nm。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人寧夏大學(xué)，其通訊地址為：750021 寧夏回族自治區(qū)銀川市西夏區(qū)賀蘭山西路489號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。